Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器返回列表頁

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產(chǎn)品型號

品牌Eksma

廠商性質代理商

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更新時間：2024-04-23 11:38:58瀏覽次數(shù)：988次

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產(chǎn)品分類品牌分類

光學儀器: 顯微鏡輪廓儀拉伸機接受模塊激光器鏡頭探測器紅外光源傳感器

全部產(chǎn)品列表

產(chǎn)品簡介

價格區(qū)間	面議	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學元件

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器
該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器，用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光，同時透射P偏振光，可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中?？梢酝ㄟ^旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。

詳情介紹

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

990-0071

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

將激光束分成兩束，分別由68°的手動可調強度比，較大的動態(tài)范圍，可忽略的透射光束偏差組成。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束，分別由手動調節(jié)強度比的68°角分開

?大動態(tài)范圍

?可以忽略的透射光束偏差

?高光學損傷閾值

?透射光束的衰減范圍：0.5％-95％反射光束的衰減范圍：5％-99.5％

該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器，用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光，同時透射P偏振光，可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。可以通過旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。

可以在很寬的動態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調整±2°，并獲得較大的偏振對比度。

產(chǎn)品型號

飛秒激光脈沖

型號	波長	激光損傷閾值
990-0071-343	343 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400	400 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400B	390-410 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515	515 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515B	505-525 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800	800 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800B	780-820 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030	1030 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030B	1010-1050 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光應用

型號	波長	激光損傷閾值
990-0071-266H	266 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-343H	343 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400H	400 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400HB	390-410 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515H	515 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515HB	505-525 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800H	800 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800HB	780-820 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030H	1030 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030HB	1010-1050 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

飛秒應用

孔徑	10 mm
損害閾值大功率激光應用：	> 10 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型
時間色散	對于100 fs Ti：藍寶石激光脈沖，t<4 fs
偏振對比	>1:200

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。