產品簡介
非接觸光學測量,可測量薄膜厚度、折射率、吸收系數、偏振角度。
sentech透明膜膜厚儀激光橢偏儀 SE400adv具有高穩定性和精度。由于其具有穩定激光光源、溫度補償裝置、起偏器跟蹤和極低噪聲探測器。
詳細介紹
Sentech激光橢偏儀 SE400adv-太陽能電池膜厚測量儀
sentech透明膜膜厚儀激光橢偏儀
在測量太陽能電池粗糙表面反射膜方面,有出色的表現。
非接觸光學測量,可測量薄膜厚度、折射率、吸收系數、偏振角度。
高穩定性和精度。由于其具有穩定激光光源、溫度補償裝置、起偏器跟蹤和極低噪聲探測器。
光學自動準直設計。
快速、簡單易操作,可選擇應用特定的入射角度。
支持多角度測量,以便分析更復雜的樣品和更準確的厚度。
多角度激光橢偏儀 SE400advanced 能夠測量薄膜厚度及其光學常數,使用 632.8nm 波長氦氖激光器,具有*的精度和準確度。SE400advanced可用來測量單層、多層和大尺寸材料。SE400advanced 的功能基于橢圓偏振光原理,一種使用激光偏振光的非接觸光學反射測量方式。
由于 sentech透明膜膜厚儀激光橢偏儀SE400advanced *、易用、Recipe 模式導向和功能強大的軟件,SE400advanced 能夠滿足研發需求和生產中的質量控制需求。它包含了大范圍的應用,比如微電子學、III-V 半導體、生物和生命科學、顯示技術、磁介質、金屬處理和其他應用。對ψ,?的高靈敏度測量和極低噪聲探測器,使其能夠測量非理想的、散射的、粗糙表面的膜層,比如太陽能電池表面的減反射膜的測量。
SE400advanced 被設計用來將橢偏儀測量理論的全部潛能發揮到極限。由于 SE400advanced 具有高穩定補償器、電腦控制的穩定旋轉分析器和自動定位起偏器,能夠測量極薄的膜層,也能夠測量各種吸收基底或透明基底上的粗糙表面薄膜。
SE400advanced 包含了一個高性能、精密的手動角度計,確保了在較短測量時間內的多角度測量,以便分析復雜樣品。
SE400advanced 是簡潔緊湊的設備,能夠快速啟動并運行。通過以太網連接的 PC 或筆記本電腦對設備進行控制。新的操作系統和 PC 會被使用。
SE400advanced 軟件描述
必要的測量和分析步驟被優化,使過程被簡化到只需操作單個按鈕就能夠完成強大測量功能。預先定義的應用Recipe能夠讓使用變得簡易。由于可以利用所提供的全面的材料數據庫,能夠很輕松的添加或更改測量Recipe。SE400advanced 軟件支持本地化,能夠支持不同的語言:英語(默認),德語。其他使用西里爾字母和亞洲字母的語言也能夠被很好的支持。
技術指標:
波長: 632.8 nm 氦氖激光器 (Class 1 device)
90°位置 時ψ,?精度:δ(ψ)=0.002° δ(?)=0.002°
長期穩定性:δ(ψ) = ±0.01° ;δ(?)= ±0.1°
膜厚測量精度:0.1 Å for 100 nm SiO2 on Si
折射率測量精度:5x10-4 for 100 nm SiO2 on Si
透明薄膜的厚度范圍:*4 µm
弱吸光性薄膜厚度范圍 (多晶硅):*2 µm
膜層數量:默認: 在基底或多層膜上的1-3層膜
測量時間:120 ms ….. 1.5 s (決定于測量方式)
設置:PCSA with Compensator
高穩定性補償器Compensator, 可得到 0° 和180°附近?的高精度
電腦控制的起偏器 Polarizer,定位/探測,自動校準高穩定旋轉分析器Analyzer
激光束直徑:1 mm
入射角: 手動角度計40° - 90°, 步進值5°
樣品對準:用于樣品傾斜角度和高度手動調整的自動校準鏡(ACT)
選項: 自動對焦
樣品載物臺:可調節高度和角度的樣品臺,150mm直徑
選項:-真空吸盤
- x-y 地形圖掃描載物臺
設置和保養:橢偏儀的自動校準, 保養模式包括自檢
維護:自動的內部維護程序,檢查絕大多數部件的正常工作
PC, 顯示器 :新型商用計算機,鼠標,鍵盤,, 以太網卡,Windows XP操作系統,使用TFT液晶顯示器
軟件: SENTECH 公司的 SE 400 橢偏儀軟件
預先定義的應用模式:比如:
- 硅上的介質膜
- 砷化鎵上的介質膜
- 玻璃上的有機薄膜
- 硅上的自然氧化膜
- 砷化鎵上的自然氧化膜
標準測量 Recipe
單角度入射(40 度到 85 度間的固定角度)
多角度入射(40 度到 85 度間的角度, 步進值 5°)
材料庫包含:
電介質, 弱吸收薄膜, 晶體和非晶半導體, 金屬, 有
機物, 玻璃,石英和其他