在實(shí)際的開(kāi)發(fā)和質(zhì)量控制應(yīng)用中，Palas®的MFP過(guò)濾器測(cè)試臺(tái)已經(jīng)在世界各地經(jīng)過(guò)多次驗(yàn)證。

MFP Nano plus過(guò)濾介質(zhì)試驗(yàn)系統(tǒng)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標(biāo)準(zhǔn)精確測(cè)定HEPA和ULPA過(guò)濾介質(zhì)的分離效率而計(jì)。

U-SMPS形式、現(xiàn)代且功能強(qiáng)大的納米顆粒測(cè)量設(shè)備可將用于5 nm到1 µm范圍粒度測(cè)量和量化分析。

借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產(chǎn)與MMPS范圍相匹配的準(zhǔn)確氣溶膠分布。

由于采用可移動(dòng)稀釋液級(jí)聯(lián)，因此可以在非常短的時(shí)間內(nèi)將測(cè)試設(shè)備從使用鹽霧劑轉(zhuǎn)換為DEHS霧劑，而無(wú)需清洗。

測(cè)試序列的高度自動(dòng)化設(shè)置以及清晰定義的單個(gè)組件和濾波器測(cè)試軟件FTControl的可單獨(dú)調(diào)整程序相結(jié)合，共同提供高度可靠的測(cè)量結(jié)果。

MFP過(guò)濾器測(cè)試臺(tái)是用于扁平過(guò)濾器介質(zhì)和小微型過(guò)濾器的模塊化過(guò)濾器測(cè)試系統(tǒng)?？梢栽诤芏痰臅r(shí)間內(nèi)確定壓力損失曲線(xiàn)、餾分分離效率或負(fù)荷，既可靠又具有成本效益。

我們的質(zhì)量細(xì)節(jié)

1.使用UGF 2000產(chǎn)生多種氣溶膠，例如使用KCl/NaCl或DEHS。集成的硅膠干燥長(zhǎng)管。通過(guò)質(zhì)量流量控制器單獨(dú)調(diào)節(jié)產(chǎn)生的氣霧體積流量。

2.氣溶膠中和：Kr 85-370電源或軟X射線(xiàn)充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調(diào)節(jié)離子流以適應(yīng)不同質(zhì)量流量。可調(diào)混合空氣，流入速度為1.5至40厘米/秒。通過(guò)質(zhì)量流量控制器實(shí)現(xiàn)監(jiān)視和控制。

3.可移動(dòng)的氣動(dòng)過(guò)濾器支架，用于快速拆卸和裝載測(cè)試裝置。

4.可移動(dòng)的稀釋液級(jí)聯(lián)：稀釋液級(jí)聯(lián)可以按規(guī)定的10、100、1,000和10,000因子對(duì)所施加的測(cè)試氣霧劑進(jìn)行規(guī)定的稀釋。由于它們是可移動(dòng)的，因此可以在很短時(shí)間內(nèi)將測(cè)試設(shè)備從使用鹽霧劑轉(zhuǎn)換為DEHS霧劑。無(wú)需長(zhǎng)時(shí)間或復(fù)雜地清潔系統(tǒng)。

5.用于納米顆粒測(cè)量的U-SMPS

Palas®過(guò)濾器測(cè)試軟件FTControl控制U-SMPS并評(píng)估數(shù)據(jù)。

將氣溶膠分布調(diào)整到MPPS范圍

通過(guò)適當(dāng)調(diào)整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano plus中的相關(guān)MPPS范圍匹配。

圖1：使用DEHS調(diào)整所需MPPS范圍的粒徑

圖2：比較140 nm粒徑MPPS范圍內(nèi)的餾分分離效率

•    清晰展示整個(gè)測(cè)量范圍內(nèi)過(guò)濾介質(zhì)的分離效率
•    精確測(cè)定MPPS范圍
•    最高的測(cè)量重現(xiàn)性和可重復(fù)性突出顯示分離效率的微小差異
•    優(yōu)化的應(yīng)用程序?qū)⒚看畏蛛x效率測(cè)量的測(cè)量時(shí)間縮短到6分鐘左右
•    分離效率曲線(xiàn)的簡(jiǎn)單比較，也可以計(jì)算平均值

自動(dòng)化：

MFP Nano +集成有質(zhì)量流量控制器，可用于控制體積流量；可以通過(guò)FTControl過(guò)濾器測(cè)試軟件自動(dòng)監(jiān)視和控制這些流量。在過(guò)濾器測(cè)試期間，還會(huì)自動(dòng)記錄傳感器數(shù)據(jù)，例如過(guò)濾器流量和壓差。在沒(méi)有稀釋系數(shù)與分離效率（10、100、1,000或10,000）相匹配的過(guò)濾介質(zhì)情況下進(jìn)行原始?xì)怏w測(cè)量。然后，在不稀釋并插入過(guò)濾介質(zhì)的情況下進(jìn)行清潔氣體測(cè)量。稀釋系數(shù)的改變是自動(dòng)執(zhí)行的。

稀釋系數(shù)的驗(yàn)證：

集成在MFP Nanoplus中的稀釋系統(tǒng)的工作原理與采用噴射原理的成熟的VKL系列相同。 這種稀釋級(jí)聯(lián)的優(yōu)點(diǎn)是傳輸過(guò)程清晰、污染程度低而且容易清洗。

圖3：將原始?xì)怏w/清潔氣體與10倍NaCl顆粒進(jìn)行比較來(lái)驗(yàn)證稀釋系統(tǒng)數(shù)

•    使用MFP Nanoplus，可以在MPPS范圍內(nèi)以及整個(gè)測(cè)量范圍內(nèi)進(jìn)行餾分分離效率測(cè)量。 另外，在相關(guān)的流入速度下，清楚地確定介質(zhì)相關(guān)壓力損失。

MFP Nano plus過(guò)濾介質(zhì)試驗(yàn)系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)：

應(yīng)用：

參數(shù)：