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nanoArch P130-2μm精度微納3D打印系統(tǒng)
  • nanoArch P130-2μm精度微納3D打印系統(tǒng)
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更新時(shí)間:2024-09-30 21:00:07

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nanoArch P130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

nanoArch P130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)科研級3D打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

nanoArchR P130 系統(tǒng)性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏樹脂

光學(xué)精度

2μm

XY打印精度

2μm~10μm

打印層厚

5μm~20μm

打印樣品尺寸

3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)①

打印文件格式

STL

系統(tǒng)外形尺寸

1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm3

重量

650kg

電氣要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊

設(shè)備功率

2000W

注:①、樣品高度典型2mm,最高10mm

微尺度3D打印系統(tǒng)打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。

個(gè)性化

高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。


應(yīng)用領(lǐng)域:

nanoArch P130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于力學(xué)超材料、生物醫(yī)療、微機(jī)械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域

企業(yè)簡介:

摩方精密(BMF,Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技術(shù)及精密加工能力解決方案提供商。專注于精密器件免除模具一次成型能力的研發(fā),提供制造復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)技術(shù)解決方案,同時(shí),可結(jié)合不同材料及工藝,實(shí)現(xiàn)終端產(chǎn)品高效、低成本批量化生成及銷售。

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