nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統是可以實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印,從而實現超高精度大幅面的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。
個性化
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ,支持透明樹脂,柔性樹脂,硬性樹脂,納米顆粒摻雜復合樹脂,4D打印樹脂,生物醫療樹脂等,需適配不同的工藝和模型,不保證打印性能。
nanoArchR S140 10μm系統性能