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洞察全球光電趨勢,聚焦微納3D打印技術產學研用融合

閱讀:3641      發布時間:2024-3-1
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光電產業正處于蓬勃發展的關鍵時期,全球聯接數量和算力需求的翻倍催生了新的機遇。中國的增材制造產業正在其龐大的國內市場中錘煉技術,將這些技術轉化為創新的產品和服務。這些產品和服務不僅服務于我國客戶的數字化轉型,更將中國技術與實踐方案送往全球市場。在這一過程中,包括光電信設備、光器件、光模塊、傳感技術以及半導體加工與制造在內的多個領域,都顯示出巨大的市場發展潛力。

技術出海-走向國際的硬核科技

亞洲光電博覽會(APE 2024)將于2024年3月6-8日在新加坡Sands Expo And Convention Centre 盛大舉行。展會將涵蓋信息通信、光學、激光、紅外、傳感、顯示等產品,其中在通信板塊中將重點展示光芯片、光器件、光模塊、光纖光纜、光傳輸設備等。展會期間,APE還將圍繞未來趨勢、前沿技術、行業熱點及創新性應用場景等議題展開深入探討,共同挖掘光電領域的無限可能,推動這一領域向更高層次的發展。

如今,東南亞地區具有廣泛的市場潛力和龐大的年輕人口基數,隨著近兩年當地光電企業的蓬勃發展,正在不斷加強精密化基礎設施建設,尤其是對精密化和數字化的需求在迅速增長。

摩方精密深耕行業探索,以突破傳統技術為追求,以市場需求為導向。本次展會摩方精密將攜重磅設備microArch® S240(精度:10μm)以及精密復雜連接器、芯片測試接插件、樹脂內窺鏡端座、微流控、微針貼片等終端應用和結構樣件亮相展位Hall D, DC-03,通過與業界優秀企業的交流與合作,助力光電領域企業解決精密制造問題,共同探討光電領域的未來發展方向。

極客精神-以技術創新為內核

在全球工業制造日益精密化、精準化和小型化的趨勢下,對精確度的追求已經成為行業發展的關鍵所在。摩方精密一直在科研及工業領域穩扎穩打,用匠心務實的精神深耕于精密制造多元應用的探索,不斷追求創新,致力于開發新技術、新裝備、新材料及新工藝。

摩方精密的面投影微立體光刻(PμSL)技術,是目前行業內極少能實現2μm超高精度,同時兼具高公差控制加工能力的3D打印系統,能保證精度的基礎上加工大尺寸樣件,具有跨尺度功能,并且能使微納3D打印技術用于加工粘稠的陶瓷漿料、工程樹脂材料等。在媲美傳統精密加工的同時,兼具工業級加工能力和質量,能夠高效地生產出高公差控制且高分辨率的零部件。

摩方精密即將推向全球市場的復合精度光固化3D打印技術,將為更小特征尺寸的復雜結構加工處理提供一套全新的解決方案。該技術不僅能夠智能捕捉模型結構細節,實現同一平面上不同精度的自由切換,且具備設計靈活性與制造穩定性,這將賦予工業制造領域更多可能性。

研發驅動-助力企業邁入高速發展快車道

面對日益增長的連接和傳感需求,摩方精密致力于深入行業應用,為大容量數據傳輸和高速高密度連接領域提供高效、可靠的解決方案。

復雜精密微型化的樣件開發一直存在著加工周期長和成本高等問題。摩方超高精密3D打印技術和傳統CNC以及注塑成型相比,高精密3D打印技術在加工精密樣件方面明顯具有精度高、成本低、和周期短等明顯優勢。

摩方精密與安費諾旗下的4個大通訊生產廠、6個研發與生產點進行合作,解決了他們在研發、制樣過程中的難題。打印的樣品精度等參數達到其要求,且大幅縮短制造周期,提高了其研發部門的效率,降低了試錯成本。

廣瀨電機為了縮短開發周期,選擇使用摩方精密nanoArch® S140(精度:10μm)制作電子連接器原型。這些連接器的寬度為幾毫米,高度僅為 1 毫米,且連接器針之間的間隔為 0.4 毫米。該司表示nanoArch® S140是能夠滿足最小細節精度和準確性的 3D 打印機。

本次大會摩方精密將在現場展示microArch® S240(精度:10μm),該設備是摩方精密一款面向工業批量生產的超高精密3D打印機,具有超高精度,大幅面,宏微一體化加工等多種優勢,并獲得全球光電科技領域最高獎“棱鏡獎(Prism Award)”。

摩方精密在國際化的道路上穩扎穩打,不斷加強與全球客戶的緊密協作,共同挖掘更多元的應用領域。摩方始終堅持以品質為基石,以創新為內核,以服務為后盾,穩步邁向全球,致力在布道微納3D打印的路上遠行,持續構建創想生態,助力國產技術走向世界。

誠邀您蒞臨亞洲光電博覽會摩方精密展位Hall D, DC-03,與全球優秀行業共話通信未來,共啟光電探索之旅!

 

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