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痕量和超痕量分析在科研、工業和檢測等各個領域發揮著越來越重要的作用，這些靈敏的分析技術對分析過程中的污染風險零容忍。純水在其中，參與清洗部件、冷卻、標準曲線繪制、樣品制備等諸多環節。水的純度，必須符合嚴苛的要求。

    Genie De-ion 是樂楓設計，與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統配合使用的純化、取水終端，提供離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平的分析級超純水，使用者可通過Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開關控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）、石墨爐原子吸收（GF-AAS）等多種痕量/ 超痕量元素分析技術。

Genie De-ion 痕量分析用純化取水終端特點

● 裝有 ICP 型超純化柱，對超純水進行深度純化進一步去除痕量離子，持續提供ppt 或亞ppt 離子水平的超純水。

· 優化水路設計，提高過水量，水質穩定。

· 柱體強耐壓，接口雙重密封，漏水風險低。

· 帶智能識別碼（RFID），智能化管理，工作狀態實時監控，追溯水質歷史數據、使用參數等。

· 安裝更換簡單，可以單手操作。

● 終端自帶彩色觸摸屏

· 2.4 英寸，實時顯示水質/ 流速等常用信息。

· 可戴手套和帶水操作。

· 設置手動或定量取水，調節流速。

● Genie De-ion 痕量分析用純化取水終端布局靈活，安裝便利，節省實驗室空間

性能指標