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Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統在衍射微光學中的應用
德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統，該系統是first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世代表著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。下面講講在衍射微光學中的應用：
多級衍射光學元件
雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE)，并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。
出色形狀精度的DOE納米結構
由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。
Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。