產地類別 | 國產 | 應用領域 | 生物產業,電子,交通,航天 |
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產品簡介
詳細介紹
真空等離子清洗機
主要應用 :
1.表面清潔 2.表面活化 3.鍵合 4.去膠 5.金屬還原 6.簡單刻蝕 7.去除表面有機物 8.疏水實驗 9.鍍膜前處理等
主要特點:
1.實時顯示檢測樣品倉內的真空度
2.艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料,耐用防腐蝕
3.采用電容式等離子激發,處理效果均勻,激發電極板內置樣 品倉內頂部懸掛
4.手動,自動兩種模式任意切換
5.程序化設計,預先編輯好程序,儀器自動完成實驗
6.控制系統:采用觸摸屏+內置計算機控制
7.無需任何耗材,使用成本低,無需特殊進行維護,在日常使用中保持儀器清潔即可
真空等離子清洗機
技術規格 :
1.艙體尺寸: 230X230X230mm,容積:12升
2.樣品托盤尺寸:205*205MM
3.射頻頻率: 13.56MHz
4.射頻功率: 300W,10到300W無極可調,精度:1瓦
5.電源: ~220V 電流: 1.2A
6.時間設定:1秒到99分59秒
7.氣體穩定時間:1分鐘
8. 氣路設置:內置氣體質量控制器(MFC)(氣體流量控制 可以選擇外置的浮子流量計,這樣可以優惠3000元),雙氣路
9.外形尺寸: 約550mmX550mmX600(高)mm
真空泵:抽氣速率:8立方米/小時(2.2升/秒)極限真空:0.05Pa功率:400瓦
基本配置:主機 + 真空軟管+ 樣品托盤+ 說明書+ 電源線+ 真空系統 + 油霧器