詳細介紹
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃~+200℃ | ||||||||||||
控制系統 | 前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協議 | MODBUS RTU 協議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度 | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環系統 | 整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水)cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / |
TCU控溫單元 微通道用制冷加熱控溫系統
TCU控溫單元 微通道用制冷加熱控溫系統
高低溫加熱循環裝置實現了對介質溫度的快速響應與準確控制,不僅提高了化學反應的效率和可控性,還為精細化工、冶金等多個行業提供了可靠的溫度控制解決方案。
1、準確控溫:
化學反應往往對溫度條件有著一定的要求。高低溫加熱循環裝置能夠輕松應對從零下幾十度到幾百的寬幅溫度變化,為各種化學反應提供穩定的溫度環境。例如,在氫化反應中,通過低溫降溫可以收集反應后產生的物質,使反應過程更加可控。
2、提高反應效率:
高低溫加熱循環裝置通過快速升降溫功能,縮短了反應達到目標溫度的時間,從而提高了反應效率。同時,溫度的準確控制也減少了因溫度波動導致的副反應,提高了產物的純度和收率。
3、擴展反應范圍:
許多化學反應需要在特定的溫度條件下進行。高低溫加熱循環裝置能夠在不同溫度條件和反應介質下合成具備不同性能的材料,從而擴展了化學反應的范圍。例如,在材料合成過程中,往往需要不同的溫度條件,該設備能夠滿足這些需求,合成出具有特定性能的材料。
4、保障安全與質量:
化學反應過程中,溫度控制不當可能導致危險事故的發生。高低溫加熱循環裝置通過準確的溫控系統和良好的密封性能,確保了反應過程的安全性和穩定性。同時,其防腐性能也保證了高純度化學品生產過程中的質量。
在精細化工領域,高低溫加熱循環裝置成功解決了傳統控溫方式下溫度波動大、響應速度慢的問題。該裝置的應用使得關鍵化學反應的溫度控制精度提升至±0.1℃,顯著提高了產品的收率和純度。
無錫冠亞的各種設備的原理以及參數僅供參考,不同客戶實際拿到的設備是按照自己的工況需求與參數設計生產出來的,設備配置、價格以及型號存在一定的差異,具體以銷售聯系溝通為準。