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無錫冠亞智能裝備有限公司>>醫藥化工行業控溫解決方案>>加熱冷卻循環器>>SUNDI-275Chiller ?型制冷加熱機組 半導體直冷機

Chiller ?型制冷加熱機組 半導體直冷機

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參考價149969
具體成交價以合同協議為準
  • 型號

    SUNDI-275
  • 品牌

    LNEYA/無錫冠亞
  • 廠商性質

    生產商
  • 所在地

    無錫市

規格
SUNDI-420149969元5 臺 可售
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更新時間:2024-08-29 16:48:00瀏覽次數:132

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產品簡介

產地類別 國產 價格區間 10萬-20萬
應用領域 化工,生物產業,石油,電子,制藥    
【無錫冠亞】Chiller ?型制冷加熱機組 半導體直冷機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

詳細介紹


型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/

















 


Chiller ?型制冷加熱機組 半導體直冷機

Chiller ?型制冷加熱機組 半導體直冷機

  在化學工業中,冠亞制冷導熱油二次循環加熱裝置在化學反應過程中發揮著作用,在設備或管道中,導熱油將熱能傳遞給物料,完成熱交換過程。隨后,導熱油返回加熱系統,再次被加熱,實現循環使用。

  一、導熱油二次循環加熱裝置在化學反應中的應用優勢

  1、穩定熱源提供

  化學反應往往需要在特定的溫度條件下進行,導熱油二次循環加熱裝置能夠提供穩定、均勻的熱源,使得化學反應過程得以準確控制。這有助于提高產品質量和產量,減少因溫度波動導致的副反應和產物不純的問題。

  2、適用范圍廣

  導熱油二次循環加熱裝置適用于多種化學反應場景,其加熱和循環功能使得化工生產過程中的熱能傳遞更為穩定,從而提升了生產效率。同時,該裝置還可以與其他設備配合使用,實現多種工藝流程的自動化控制。

  二、導熱油二次循環加熱裝置具體應用案例

  1、橡膠硫化過程

  在橡膠硫化過程中,需要嚴格控制硫化溫度和時間以確保橡膠制品的性能。導熱油二次循環加熱裝置能夠提供準確的溫度控制,確保硫化反應在溫度下進行。這不僅提高了橡膠制品的質量,還縮短了硫化時間,提高了生產效率。

  2、制藥行業

  在制藥行業中,藥品和糖果等物料的加熱過程對溫度控制有高的要求。導熱油循環加熱系統能夠準確控制加熱溫度,確保物料在加熱過程中不會因溫度過高而破壞其有效成分,這有助于提高產品的質量和安全性。

導熱油二次循環加熱裝置通過提供穩定、均勻的熱源和準確的溫度控制,冠亞制冷裝置提高了化學反應的效率和產品質量,隨著化工行業的不斷發展,導熱油二次循環加熱裝置將在更多領域發揮作用。




Chiller ?型制冷加熱機組 半導體直冷機


無錫冠亞的各種設備的原理以及參數僅供參考,不同客戶實際拿到的設備是按照自己的工況需求與參數設計生產出來的,設備配置、價格以及型號存在一定的差異,具體以銷售聯系溝通為準。




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