詳細介紹
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃~+200℃ | ||||||||||||
控制系統 | 前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協議 | MODBUS RTU 協議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度 | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環系統 | 整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水)cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / |
半導體反應腔室控溫系統的使用性能
半導體反應腔室控溫系統的使用性能
半導體反應腔室控溫系統是擁有制冷和加熱的恒溫源,通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用。那么,用戶再選購時就要從它的使用性能,各部分動作的平穩性、靈活與否、機身高度離地間隙等,看看是否能滿足自己的工況要求,又或是經濟指標是否合理、機器操作是否可靠、穩定。
1、是用于醫藥生化行業實驗室中提供冷源、熱源以及恒溫的實驗條件的儀器設備。
2、將制冷和加熱集于一身,來進行實驗,采用電氣來來控制制冷量和加熱量,讓箱體內的反應溫度達到用戶所需溫度。
3、用于多種多臺控溫系統,采用了PID溫度控制算法,利用單一的熱交換介質來控制反應釜的反應溫度,采用全密閉管路來減少反應介質的切換過程,減輕了導熱介質的氧化程度,延長了導熱介質的使用壽命。
4、運用的PID控溫方式可以提高設備的控溫準確度,采用自動控制方式可以減少人為因素的影響,簡化了設備的操作程序,也避免了操作失誤對設備的影響。
5、可以盡快響應控溫中的系統滯后問題,控制系統由主回路和從回路兩組構成,主回路通過控溫溫度變化以及梯度變化,保證達到控溫的準確度。
6、當半導體反應腔室控溫系統通電時,切不可斷開或者重新連接這兩個部件之間的電纜。這會破壞模塊的電路。
7、從維護和安裝時的方便和安全方面考慮,確保在室內機和障礙物之間有足夠的空間。
8、采用進口的壓縮機來進行運作,在運作過程中吸收空氣中的熱量從而得到熱水。通過對循環水溫度的調整帶動反應物體的溫度進行制冷冷卻。從而實現了高溫低溫都能進行正常反應。
無錫冠亞的各種設備的原理以及參數僅供參考,不同客戶實際拿到的設備是按照自己的工況需求與參數設計生產出來的,設備配置、價格以及型號存在一定的差異,具體以銷售聯系溝通為準。