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HMDS處理系統的藥液泄漏處理方法
HMDS真空烘箱，HMDS處理系統中HMDS泄漏處理方法
1.在污染區尚未*清理干凈前，限制人員接近該區。
2.確定清理工作是由受過訓練的人員負責。
3.穿戴適當的個人防護裝備.
4.對該區域進行通風換氣。
環境注意事項：抽氣通風，移走撤離關閉所有可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點火裝置，若大量泄漏時先將泄漏區圍堵避免擴散。
HMDS清理方法：
少量泄漏時：以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。
大量泄漏時：將泄漏區域圍堵，小心地道引將泄漏物抽取回收集桶。
超泓HMDS真空烘箱，HMDS處理系統主要用途：
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
HMDS真空烘箱，HMDS處理系統技術參數：
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2200W
溫度范圍：RT+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：±1℃
達到真空度：133Pa（1torr）
工作室尺寸（mm）：450*450*450,550*550*350（可定做）
超泓HMDS真空烘箱，上海超泓HMDS處理系統特點：
1、預處理性能更好
2、處理更加均勻
3、效率高
4、更加節省藥液
5、更加環保和安全
6、高安全保護性能
a.低液報警裝置
b.可自動吸取HMDS功能，
c.可自動添加HMDS功能，
d.HMDS藥液泄漏報警功能，
HMDS安全處置與儲存方法：
處置：HMDS易產生靜電，搬運時將所有設備與容器適當接地，并須固定牢固，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。
存儲：置于陰涼、干燥、通風處、緊蓋容器，遠離各種可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點火裝置，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。