COD消解儀+高純酸制備系統
一、產品指南
1、什么是“COD”?
COD:它是表示水中還原性物質多少的一個指標,即為化學需氧量COD(Chemical Oxygen Demand),以化學方法測量水樣中需要被氧化的還原性物質的量。在河流污染和工業廢水性質的研究以及廢水處理廠的運行管理中,它是一個重要的而且能較快測定的有機物污染參數,常以符號COD表示。
2、COD消解器是用來做什么的?
COD消解儀+高純酸制備系統,COD消解器是測定COD指標時對水樣前處理的一款加熱裝置,其本身是不具有測定功能,該系列產品遵循標準(ISO)和國家標準(GB11914-89)的基本原則,保證其消解操作,試劑溶液的配置加入量都和國標法*,確??煽烤_的分析結果,化學需氧量越大,說明水體受有機物的污染越嚴重。
較之COD標準回流法,微波密封消解COD方法所需試劑顯著減少,抗氯離子強,消解時間僅10分鐘,達到省時、節能、節水和高效的目的,可作為等效方法使用。
二、技術參數
項目 | 微波消解裝置參數 |
測量范圍 | CODcr:5-2500mg/L;TP:0.01-0.6mg/L;TN:0.05-4mg/L |
COD抗氯離子干擾能力 | ≤10000mg/L |
精密度 | CODcr值在80-150MG/L時:室內相對標準偏差≤5.0℅ |
TP、TN能滿足國家標準(GB11889-11915-89)水質詞匯(第3- 7部分)與分析方法的要求 | |
準確度 | CODcr與經典回流法比對,相關系數r>0.999 TP 、TN與標準方法比對,相關系數r>0.999 |
消解時間 | 5~20min可設定 |
消解樣品(每爐次) | 標準配置6個 |
消耗功率(微波輸出功率) | 700W |
工作方式 | 連續 |
三、儀器特點:
1.配置:儀器包括微波消解爐一臺,隨機配置聚四氟乙烯消解罐六只(本裝置一次可以放置十二只消解罐,如需要可另增購聚四氟乙烯消解罐)。
2.散熱通風:儀器底部和頂部開有通風口,供散熱排氣用,切不可遮擋(使用前將包裹爐體薄膜撕開)。
3.轉輪 轉盤:儀器使用前先放入轉輪及玻璃轉盤,并保證轉盤位于轉輪中央且同心。
4. LED顯示溫度、時間、準確直觀,消解完成蜂鳴提示。
四、產品優勢
1、消解時間短,可*消解水樣;
2、省時、省費用,操作簡單方法;
3、可消解多種物質:化學需氧量(CODcr)、總磷(TP)、總氮(TN);
4、密封消解,超壓保護;
5、安全可靠,消解完成蜂鳴提示;
6、可測定10mg/L以下低CODcr值;
7、可加熱快速測定化學耗氧量COD,所得數據與經典方法對應。
南京濱正紅儀器有限公司
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ZH-酸純化器利用熱輻射原理使酸氣冷凝制備高純酸試劑
- 產品簡介:
酸純化器:又稱酸純化系統,高純酸提純器,酸試劑提純器,高純酸蒸餾純化器等,實驗室工作中常常由于酸的純度較差,造成分析結果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于價格較貴,很難滿足日常分析中對酸的大量需求。因此,提純優化酸的質量,是為經濟可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。
二、工作原理:
酸純化器是利用熱輻射原理,保持液體溫度低于沸點溫度蒸發,再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑,廣泛應用于樣品處理及分析實驗中。
- 產品特點:
1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應用中提供實驗室級超純酸,所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料,可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。
2、實驗證明將金屬雜質含量約10ppb的酸經過一次蒸餾后,金屬雜質含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高,可增加提純次數。
四、相關參數:
型號 | CH-I 500ml | CH-II 1000ml | CH-Ⅲ 2000ml |
名稱 | 酸純化器 | 酸純化器 | 酸純化器 |
產酸率 | 30ml/h | 50ml/h | 70ml/h |
溫控方式 | PID溫控數顯 | PID溫控數顯 | PID溫控數顯 |
控溫精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
材質 | FEP、PTFE、硅膠 | ||
電壓 | 220V/50Hz | ||
功率(W) | 350 | ||
優勢 | 1.密閉環境下提純酸,不受環境污染,確保酸純度 | ||
2.純FEP、PTFE材質制造,空白值低無腐蝕 | |||
3.技術先進,結構合理,操作簡單,一鍵式操作,蒸干自我保護 | |||
4.提純過程中,極少量酸氣逸出 | |||
5.節約成本,方便實驗:較短時間內純化低成本的酸試劑以達到痕量分析要求 |
五、使用注意事項:
1、所有配件(控制器、電源線、加熱片等除外)放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡,去除雜質。
- 加酸前必須做好個人防護如:防濺眼鏡、防酸手套等(蒸水除外)。
【電子級酸】:
適用于半導體生產過程中所用產品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析,根據質控的金屬元素含量的數量和含量,劃分為4個級別:MOS級,VLSI級,ULSI級,SLSI級
MOS級(EL級):控制十多個金屬元素,單項金屬元素雜質控制在100PPb左右
VLSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質控制在10~100PPb
ULSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質控制在10PPb以下
SLSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質控制在1PPB以下
所謂的電子級酸,其實就是ppb或者ppt級的高純酸。
實驗數據(僅供參考):儀器:CH-I 酸純化器;試劑:優級純的HF
蒸餾后,經中國地質大學地質過程與礦產資源國家重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質的含量:
元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) | 元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) |
Be | <0.01 | Ba | <0.01 |
Mg | <0.02 | La | <0.01 |
Sc | <0.01 | Ce | <0.01 |
V | <0.01 | Pr | <0.01 |
Cr | <0.03 | Nd | <0.01 |
Mn | <0.01 | Eu | <0.01 |
Co | <0.01 | Gd | <0.01 |
Ni | <0.01 | Tb | <0.01 |
Zn | <0.02 | Er | <0.01 |
Ga | <0.01 | Tm | <0.01 |
Rb | <0.01 | Yb | <0.01 |
Sr | <0.02 | Lu | <0.01 |
Zr | <0.01 | Hf | <0.01 |
Cd | <0.01 | Pb | <0.01 |
Sn | <0.01 | Th | <0.01 |
Cs | <0.01 | U | <0.01 |
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