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ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發(fā)生器

公司介紹：ThalesNano Inc. 泰雷茲納諾公司是一家創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)型公司，專注于開(kāi)發(fā)臺(tái)式流動(dòng)化學(xué)儀器和解決方案，以應(yīng)對(duì)合成化學(xué)挑戰(zhàn)。

公司于2002年在匈牙利布達(dá)佩斯成立。從那時(shí)起，泰雷茲納諾在美國(guó)辦事處和全球分銷商網(wǎng)絡(luò)的幫助下，在全球范圍內(nèi)開(kāi)展業(yè)務(wù)。目前，我們的儀器在全球使用超過(guò)1500種。我們的使命是使流動(dòng)化學(xué)成為日常實(shí)驗(yàn)室例行程序的一部分，并使化學(xué)過(guò)程更安全，更輕松，更有效。我們非常重視通過(guò)協(xié)助科學(xué)合作和教育來(lái)支持研究和開(kāi)發(fā)。

我們?cè)谑袌?chǎng)上的第一臺(tái)儀器，H-Cube連續(xù)流動(dòng)加氫反應(yīng)器于2004年推出。該儀器具有突破性的創(chuàng)新氫氣發(fā)生器以及流動(dòng)化學(xué)技術(shù)的優(yōu)勢(shì)。它已獲得研發(fā)TOP -100獎(jiǎng)，并被全球數(shù)百家實(shí)驗(yàn)室使用。近年來(lái)，H-Cube已成為加氫的新行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

為了滿足市場(chǎng)需求，泰雷茲納諾開(kāi)發(fā)了新的連續(xù)流動(dòng)反應(yīng)器，以覆蓋壓力和溫度方面擴(kuò)展的化學(xué)空間。如今，該公司擁有*泛的實(shí)驗(yàn)室規(guī)模儀器產(chǎn)品組合，適用于制藥，生物技術(shù)，精細(xì)化學(xué)品，香精香料，農(nóng)用化學(xué)品和石化市場(chǎng)，以及學(xué)術(shù)研究小組和教育。

我們的產(chǎn)品系列解決了具有困難或危險(xiǎn)反應(yīng)的日常問(wèn)題。我們提供方便、安全的替代方案，具有易重復(fù)性。此外，溫度范圍為-70至1000°C，壓力從真空到200 bar，可實(shí)現(xiàn)新的化學(xué)參數(shù)窗口，否則在間歇工藝中無(wú)法實(shí)現(xiàn)。

關(guān)于催化加氫

催化加氫是當(dāng)今化工行業(yè)最重要的轉(zhuǎn)變之一。多相催化加氫除其他外，用于以下轉(zhuǎn)變：

• 雙鍵或三鍵減少

• 硝基減少

• 脫芐化反應(yīng)

• 雜環(huán)飽和度

• 脫鹵反應(yīng)

• 脫硫反應(yīng)

• 不對(duì)稱加氫

加氫通常使用間歇技術(shù)進(jìn)行。然而，這些反應(yīng)有許多缺點(diǎn)：

• 使用氫氣瓶是一種危險(xiǎn)。

• 催化劑本身可能是自燃的，使得這些催化劑的添加或過(guò)濾變得危險(xiǎn)。

• 溶劑的脫氣和惰性氣體對(duì)反應(yīng)器的吹掃使反應(yīng)過(guò)于復(fù)雜。

• 氫氣與溶劑和催化劑的混合較差，導(dǎo)致反應(yīng)時(shí)間長(zhǎng)。

所有這些缺點(diǎn)的結(jié)合意味著化學(xué)家試圖避免這種有用的轉(zhuǎn)變。在泰雷茲納諾，我們開(kāi)發(fā)了H-Cube系列，以確保以安全簡(jiǎn)便的方式再次在實(shí)驗(yàn)室中使用加氫。

1．設(shè)備名稱：氫氣發(fā)生器

2．用途：

H-Genie®是研發(fā)TOP 100屢獲殊榮的緊湊型氫氣發(fā)生器，利用壓力池技術(shù)生產(chǎn)4.0純度的H2，從水到高達(dá) 100 bar （14.5–1450 psi） 的氫氣，流速高達(dá) 1 NL/min。

H-Genie是一款提供可變氣體流速，反應(yīng)監(jiān)測(cè)和壓力能力的氫氣發(fā)生器，可實(shí)現(xiàn)擴(kuò)展和更快的化學(xué)。H-Genie是為間歇化學(xué)和流動(dòng)化學(xué)應(yīng)用提供高壓氫氣的理想解決方案。該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于任何實(shí)驗(yàn)室，以擴(kuò)展您的化學(xué)能力。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

只需去離子水，不需要壓縮機(jī)

使用壓力拓展了實(shí)驗(yàn)壓力范圍

用一個(gè)H-GENIE就可以供應(yīng)多臺(tái)反應(yīng)釜使用

內(nèi)部配有H2探測(cè)器，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)關(guān)機(jī)

占地面積小，節(jié)省空間

流量、壓力和體積控制

適用于大流量和小流量規(guī)模

自動(dòng)干燥系統(tǒng)：沒(méi)有干燥劑桶

簡(jiǎn)單的使用和設(shè)置：只需點(diǎn)擊即可

適用于任何實(shí)驗(yàn)室和反應(yīng)釜

ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發(fā)生器

技術(shù)參數(shù)：

氫氣產(chǎn)生速率：0.1-1NL/min

輸出壓力范圍：1-100bar

氣體純度：≥99.99%（4.0@100bar）

水的純度：建議去離子水的純度<1μS/cm

水的消耗速率：<200cm3/hr

儲(chǔ)水量：內(nèi)部：3L

建議環(huán)境：實(shí)驗(yàn)室通風(fēng)櫥

功率要求：電源：100V to 240V AC, 47– 63Hz

功率消耗：**大1500VA

儀器尺寸：345mm×365mm×460mm

儀器重量：38kg

出口參數(shù)：1/8英寸外徑的管線，出口閥可以與1/8"外螺紋管線相連接。

操作和存儲(chǔ)/運(yùn)輸環(huán)境：10–35 °C；< 80% RH。

安全性

H-Genie®按需從水中產(chǎn)生氫氣，消除了實(shí)驗(yàn)室中氫氣瓶的風(fēng)險(xiǎn)。它還包括多種安全功能和緊急關(guān)機(jī)協(xié)議。

智能化

憑借其內(nèi)置的質(zhì)量流量控制器，H-Genie®可以監(jiān)控使用的氫氣量，可以通過(guò)其圖形界面輕松監(jiān)控。所有數(shù)據(jù)都可以輕松導(dǎo)出。

適用多種用途

H-Genie®與所有間歇和流動(dòng)反應(yīng)器甚至氣球*兼容。只需一個(gè)通風(fēng)通風(fēng)櫥即可操作它，因此無(wú)論您的實(shí)驗(yàn)室設(shè)置如何，您都可以使用它。

與 H-GENIE 兼容的系統(tǒng)®

鳳凰流動(dòng)反應(yīng)釜™Phoenix Flow Reactor™是一種功能強(qiáng)大的儀器，可以將反應(yīng)區(qū)加熱到450°C，并且與多種類型和尺寸的反應(yīng)器（CatCarts®，MidiCarts™，盤管反應(yīng)器，金屬 - 金屬密封催化劑柱）兼容。

H-Genie®與鳳凰流動(dòng)反應(yīng)器™的結(jié)合提供了加氫合成，放大或催化劑測(cè)試能力。

加氫開(kāi)發(fā)平臺(tái)設(shè)計(jì)用于任何發(fā)現(xiàn)、開(kāi)發(fā)、工藝、石化或催化劑篩選實(shí)驗(yàn)室，將水中的原位高壓制氫與高溫反應(yīng)器能力和精確的氣體數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)相結(jié)合?；瘜W(xué)家和化學(xué)工程師現(xiàn)在可以使用高達(dá) 450°C 和 100 bar（提供 200 和 300 Bar 版本）的均相或非均相催化劑進(jìn)行氫基實(shí)驗(yàn)，而無(wú)需氫氣瓶或氫基礎(chǔ)設(shè)施。

控制模塊™

控制模塊™允許通過(guò)觸摸屏控制和可視化任何連接模塊的記錄。整個(gè)系統(tǒng)參數(shù)的自動(dòng)控制在安全方面起著至關(guān)重要的作用