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| 應用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
| 產(chǎn)品名稱 | 數(shù)碼控制超聲波清洗機 |
| 包 裝 | 紙箱 |
| 內(nèi)槽尺寸 | 500×300×150mm |
| 外形尺寸 | 530×330×280 mm |
| 功率 | 480W |
| 工作頻率 | 40,000Hz |
| 容量 | 22L |
| 定時 | 1-30min |
| 加熱 | 20-80℃ |
| 排水 | 有 |
| 凈重 | 12.5kg |
| 毛重 | 13kg |
超聲波ROHS2.0前處理設(shè)備
產(chǎn)品特點
1.使用普通自來水、酒精或溶劑作為清洗液。
2.大功率換能器清洗*，可用肉眼觀察到。
3.清洗后物體閃亮發(fā)光。
4.全不銹鋼外殼、內(nèi)膽與蓋子。更顯高檔，美觀大方
5.全不銹鋼SUS304清洗籃（可選）。
6.清洗槽采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼一次沖壓成形，無焊接處，防水性能大大改進，產(chǎn)品更加安全持久。
7.多位時間段控制，人性化控制。
超聲波ROHS2.0前處理設(shè)備
應用范圍
物件的清洗、脫氣、消毒、乳化、均勻、置換、提取等。
波數(shù) 化合物或結(jié)構(gòu) 來源
668 CO2 大氣中CO2 吸收，正或負
697 聚苯乙烯 磨損的聚苯乙烯瓶子或其他機械處理樣品過程中
719 聚乙烯 實驗室中常使用聚乙烯產(chǎn)品，有時候作為污染物出現(xiàn)
730 聚乙烯 同上
787 CCl4 使用CCl4后沒有處理干凈
794 CCl4 CCl4氣體，同上
823 KNO3 無機硝酸鹽與溴化鉀反應物
837 NaNO3 氧化氮與窗片上的水汽生成，光源點燃有時候出現(xiàn)
980 K2SO4 無機硫酸鹽與溴化鉀離子交換的反應物
1110-1053 Si-O 使用玻璃研缽，由玻璃粉末引起的譜帶，寬峰
1110 Me-O 研缽或其它物品的灰塵造成的污染，寬
1265 Si-CH3 使用硅樹脂有此污染
1365 NaNO3 同837
1380，1450
2800～2900 (CH2)n 烴類物質(zhì)
1378 NO3- 溴化鉀的雜質(zhì)，與CH3位置相近
1428 CO32- 溴化鉀的碳酸鹽，及其它雜質(zhì)
1613-1515 ﹥COO- 堿金屬鹵代鹽，溴化鉀與羧酸反應生成的羧酸陰離子引起，壓片時能產(chǎn)生