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[供應]KDH-300B-微型電弧爐非自耗真空爐規格及用途
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  • KDH-300B-微型電弧爐非自耗真空爐規格及用途
貨物所在地:
河南鄭州市
產地:
鄭州
更新時間:
2024-05-30 21:00:06
有效期:
2024年5月30日 -- 2024年11月30日
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產品簡介

微型電弧爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金,用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。

詳細介紹

 

1.設備用途:

2、主要用于將體積較大的金屬和合金熔化成鈕扣形狀的樣品。得到的樣品用于光譜化學分析和合金研究。

技術規格:

1溫度范圍:0-2000°C。(熔化金屬和合金的范圍從鋁(1220°F)和銅(1983°F),到鋼(2600~2800°F),鈦(3040°F),鉻(3380°F)。2701型熔融爐熔化合金溫度可達3600°F;

2、熔樣時間:大部分樣品的熔融時間為1分鐘或更少;大部分的高溫合金樣品的熔融時間為50 ~ 60秒。

3、樣品要求:一分鐘內科融化0-30g樣品。熔融爐可以處理金屬小塊、焊絲、切屑、鉆屑、粉末等形式樣品。小制樣量50克鋼可制成直徑1-¼”(20-25mm)、厚約¼”(6mm)的樣品;

14、升溫方法:電弧熔樣法,強烈的電弧使樣品熔化后充分攪拌并形成元素分布均勻的樣品;

5、樣品保護:熔融爐使用氬氣保護熔樣設計,以得到潔凈樣品。

6、熔樣坩堝:配有水冷的純銅坩堝,可將樣品熔融制樣

 


一、微型非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐產品簡介
 
微型電弧爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。
 
適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設備采用桌
 
面式結構,占地空間小。
 
二、非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐產品特點
 
1、采用高純氬氣保護,熔煉溫度可達3500℃
 
2、真空腔體小,可快速抽真空,快速充氬氣,效率快及氬氣消耗非常少
 
3、水冷銅電極可移動,可同時熔煉多個樣品

 

  1. 水冷銅坩堝可方便拆卸

 
5、采用真空計測量真空,壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力
 
6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛
 

  1. 桌面式設計,占地空間小,特別節約實驗空間和能源

 

  • 微型非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐設備參數:

 
  1·設備電源,AC220V 50HZ
 
  2·設備功率:10kw
 
  3·設備容量:0~20g
 
  4·水冷銅模:標準銅模中帶有一個12*φ25;5個4*φ8樣品鍋,另可根據客
 
戶要求定制
  5·真空吸鑄:(選配)吸鑄直徑0~3mm
 
 
 
 
 

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