產地類別 | 國產 | 應用領域 | 地礦,能源,電子,冶金,綜合 |
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1、采用高純氬氣保護,熔煉溫度可達3500℃2、真空腔體小,可快速抽真空,快速充氬氣3、水冷銅電極可移動,可同時熔煉多個樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5、采用真空計測量真空,壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛7、桌面式設計,占地空間小,特別節約實驗空間和能源
參考價 | ¥235000 |
訂貨量 | 1臺 |
更新時間:2024-09-24 17:39:43瀏覽次數:1006
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KDH-500真空電弧爐爾莫新材料供應
一·具體參數電弧熔煉室:立式圓筒型真空室,尺寸φ400X400mm
真空系統配置:機械泵、擴散泵(分子泵)、擋板閥
極限壓力:≤6.67x10E-3Pa ≤6.67x10E-4Pa (分子泵)
熔煉電流:長期工作電流700-1200A
熔煉坩堝:有五個工位 (半球窩SR25)三個熔煉合金工位 (帶磁攪拌)一個吸鑄工位一個熔煉除氣工位
熔煉樣品重量 (以鐵標定) 50~80克
真空吸鑄裝置:提供標準噴鑄模具1套
電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧
設備占地面積:1200*800*1600
二·KDH-500真空電弧爐爾莫新材料供應產品用途
非自耗真空電弧爐主要供大專院校或科研機構在真空或保護氣氛下對少量(數十克至上百克)貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料,使之成為合金。
三·結構說明
本產品由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構、上電極旋轉升降機構,吸鑄模具升降機構,真空系統及電源系統等組成。爐體采用雙層水冷結構,內外層為不銹鋼組焊接而成,并做表面啞光處理。結構新穎外形美觀大方。控制系統與爐體采用一體化設計,并安裝有金屬模擬屏,操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局,并配有模擬圖形,識別度高,方便操作!下電極可裝有五個坩堝工位,一個吸鑄工位 移動上電極可選擇一個進行熔化。上電極可上下移動,方便熔化操作。爐側有一至二個觀察窗用來操作引弧,觀察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。
真空系統采用二級泵,即K-200油擴散泵(或者分子泵)和TRP-24直聯泵,操作無聲,無雜音。真空機組上設有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。
一、設備用途 :
用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、設備組成:
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。
三、主要技術參數:
1、型號: KDH-600
2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
3、具有熔煉與吸鑄功能,吸鑄模具與水冷模具套滑配,保證冷卻效果的同時,拆卸方便
4、真空系統配置:飛越直聯泵、TK-150擴散泵、三臺氣動擋板閥和各種管路
5、冷態極限真空度 ≤5.0x10E-3Pa
6、熔煉電流:額定電流≤600A
7、電弧熔煉水冷坩堝:五個工位;其中有一工位用于吸鑄,容重(樣品重量)5-70(克)/熔煉池,一個長條工位容重(樣品重量)20~120(克;1~2個磁攪拌工位,攪拌可切換
8、攪拌方式:手動懸臂翻料,有機械手翻轉組件;
9、電極桿和機械手均采用球密封機構,簡便有效;電極桿電動升降,操作便攜。
10·爐體側部開門,裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,門上有操作觀察窗方便看清內部熔化情況。
11,真空系統獨立安裝,方便拆卸并便于和其他真空設備對接,一套多用。
12、工作氣體:Ar氣;
13、冷卻方式:水冷,水壓保護,含自動報警;
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