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ENT-5 納米壓痕試驗(yàn)機(jī)

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更新時(shí)間:2022-02-22 13:31:14瀏覽次數(shù):623

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應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
日本Elionix ENT-5 納米壓痕試驗(yàn)機(jī)專門對(duì)于軟質(zhì)材料(彈性模量:幾GPa或更小)和10nm或更小測(cè)試深度的測(cè)試可以獲得優(yōu)異的重復(fù)性和穩(wěn)定性,這使得100nm或更小的超薄膜的納米壓痕測(cè)試成為可能。

詳細(xì)介紹

ENT-5 納米壓痕試驗(yàn)機(jī)

適用于各種材料:

l  電鍍、硬涂層薄層

l  樹脂、聚合物薄膜

l  超薄DLC涂層

l  功能性樹脂、表面改性層

l  細(xì)顆粒和粉末材料

 

5Elionix納米壓痕測(cè)試儀

l  通過抑制測(cè)量環(huán)境中的干擾實(shí)現(xiàn)高數(shù)據(jù)再現(xiàn)性

l  可靠精密的“日本制造"

l  支持從0.5μN(yùn)2,000mN的廣泛測(cè)試負(fù)載

 

納米壓痕測(cè)試

l  可以獲得薄膜或表層的硬度和彈性模量等機(jī)械特性。分析加載/卸載曲線以確定特性。

l  分析加載/卸載曲線以確定特性,無(wú)需觀察壓痕

l  符合ISO14577-1 / JIS Z 2255

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

1.    溫度控制

防止樣品和試驗(yàn)機(jī)熱膨脹

環(huán)境隔離罩內(nèi)溫度控制在±0.1℃

機(jī)架和樣品架/載物臺(tái)使用低熱膨脹材料(Nobinite

減少環(huán)境氣流的影響

 

2.    高精度定位平臺(tái)

采用Elionix電子束光刻系統(tǒng)內(nèi)部開發(fā)的高精度“Kusabi"平臺(tái)

0.1um定位步長(zhǎng)

2,000倍的放大倍率觀察材料并設(shè)置測(cè)量點(diǎn)。

 

3.    主動(dòng)隔振

抗振楔形高精度平臺(tái)

主動(dòng)隔振臺(tái)

 

4.    軟件

日常檢查的彈出提示:壓頭頂端校正,溫度漂移校正。

易于使用的操作

 

5.    數(shù)據(jù)再現(xiàn)性

通過抑制振動(dòng)和溫度變化引起的干擾提高數(shù)據(jù)再現(xiàn)性。

即使連續(xù)測(cè)量也能獲得穩(wěn)定數(shù)據(jù)

 

6.    可維護(hù)性

易于更換裝載裝置

易于更換裝載裝置,將停機(jī)時(shí)間降低

 

技術(shù)參數(shù):

負(fù)載/負(fù)載分辨率

負(fù)位:5μN2,000mN5nN
 
負(fù)位:0.5μN10mN0.03nN

方式

測(cè)量范

±50µm

測(cè)量分辨率

0.3pm

測(cè)量方法

光學(xué)的

本量(典型)

φ50t3.5mm

測(cè)量區(qū)域

X50mm,Y40mm

最小增量

0.1μm

可選配件:

負(fù)載單元:Max. 溫度 250
 
負(fù)荷機(jī)Max. 溫度 180

冷卻架

控溫范-30℃~100

脂包埋品的品架

脂包埋品的品架

定制品架

可根據(jù)要求設(shè)計(jì)定制品架

 

可選測(cè)試:

表面測(cè)試

壓頭的表面廓特征。 
 
用于
測(cè)量材料表面的粗糙度。

試驗(yàn)

性模量 E'性模量 E"和耗系數(shù)的方法。
 
在最大
負(fù)載下施加小振
 
此外,玻璃化
轉(zhuǎn)變溫度 (Tg) 可以通熱階進(jìn)評(píng)估。

化溫度測(cè)

是一種通使壓頭品上的壓頭接觸恒定負(fù)載,同時(shí)支架升高溫度來(lái)測(cè)化溫度的方法。

水下測(cè)試

硬度測(cè)試可在水中進(jìn)行。

微粒抗強(qiáng)度測(cè)試
 
限高負(fù)元)

是用連續(xù)載荷的平面壓頭測(cè)粒的斷裂強(qiáng)度/形強(qiáng)度的方法。

測(cè)試
 
負(fù)載單元)

粒強(qiáng)度測(cè)試的附加功能,在壓縮時(shí)測(cè)粒的阻。

 

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