美國 XOS 公司 X 射線熒光光譜儀

1. XOS 公司介紹：

◆ XOS® (X-Ray Optical Systems, Inc. X射線光學(xué)系統(tǒng)公司) 總部位于美國紐約州*Albany, 為丹納赫水質(zhì)平臺(tái)子公司。

◆ XOS®是一家應(yīng)用材料和元素分析設(shè)備供應(yīng)商，為重視控制材料質(zhì)量與性能的行業(yè)監(jiān)管部門和客戶提供擁有技術(shù)的分析設(shè)備。

◆ XOS公司擁有研發(fā)和設(shè)計(jì)能力，與美國的眾多研究機(jī)構(gòu)有合作關(guān)系，曾經(jīng)參與了許多課題設(shè)計(jì)，包括美國宇航局的行星元素探測(cè)計(jì)劃（XRF方法）等。

◆ XOS擁有的X射線光學(xué)技術(shù)，能夠幫助客戶將測(cè)量靈敏性提高百倍，減少測(cè)量時(shí)間，提高空間分辨率，縮小設(shè)備尺寸，并且節(jié)約設(shè)備成本。

◆ XOS公司的光學(xué)晶體應(yīng)用于大型波長色散型XRF、微區(qū)聚焦XRF、掃描電鏡等X射線儀器。XOS公司與其他的XRF生產(chǎn)廠商都有合作，提供給它們光學(xué)聚焦晶體。

◆ XOS公司具備HDXRF的技術(shù)，也是一家XRF生產(chǎn)廠商，其他品牌XRF的核心部件—X光管、濾光片、準(zhǔn)直器等均為外購。

◆ XOS公司在元素分析領(lǐng)域有著技術(shù)應(yīng)用，XOS公司與美國NASA下屬的JPL實(shí)驗(yàn)室合作，研發(fā)了一款用于2020計(jì)劃的XRF元素分析儀

2. 主要技術(shù)參數(shù)和優(yōu)點(diǎn)：

1) 采用XOS技術(shù)DCC®（雙曲面彎晶技術(shù)），取代傳統(tǒng)的濾光片和準(zhǔn)直器，真正實(shí)現(xiàn)單色光激發(fā)樣品；

2) 檢測(cè)光斑1mm，適合測(cè)試不規(guī)則樣品和細(xì)小樣品；

3) 采用SDD硅漂移探測(cè)器，分辨率高，無需液氮冷卻；

4) 滿足美國ASTM F2853標(biāo)準(zhǔn)、

5) 可同時(shí)測(cè)試涂層與基材中的重金屬含量、

6) 采用基本參數(shù)法，可分析各類未知樣品；等等

美國XOS HD  手持式X射線熒光光譜儀

應(yīng)用領(lǐng)域：

•重金屬檢測(cè)，確保符合法規(guī)要求

•篩檢和定量分析有毒元素

•在整個(gè)供應(yīng)鏈中進(jìn)行合規(guī)驗(yàn)證：

-生產(chǎn)過程和成品質(zhì)量分析與控制（QA/QC)

-倉庫和零售商

-監(jiān)管部門

-現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用

性能和優(yōu)勢(shì):

•完成測(cè)試，測(cè)試結(jié)果可與“濕式化學(xué)法”相媲美

•與濕式化學(xué)法相比，運(yùn)營成本更低

•降低第三方測(cè)試成本

•改善工作流，降低成本

•測(cè)試頻率，降低成本

•在實(shí)際篩檢和認(rèn)證應(yīng)用中，具有的檢測(cè)下限

•同時(shí)對(duì)涂層與基體進(jìn)行分析

•點(diǎn)分析并配有分辨率分析畫圖像

•用戶友好型界面和數(shù)據(jù)管理，易于操作

 應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

技術(shù)方面

① 傳統(tǒng) XRF 普遍使用金屬濾光片，對(duì)原級(jí) X 射線進(jìn)行過濾，會(huì)導(dǎo)致熒光減弱，在測(cè)試低

含量時(shí)，其結(jié)果波動(dòng)較大，不具有參考性。同時(shí)濾光片數(shù)量有限，在基材有所變化時(shí)，

濾光片不一定適用，導(dǎo)致結(jié)果偏差。  使用雙彎晶，具有聚光功能，加強(qiáng)

X 熒光.在低含量檢出時(shí)，其結(jié)果仍然具有一定穩(wěn)定性，檢出限較低。而金屬中元素較難

檢測(cè)，將能更好應(yīng)對(duì)。

② 軟件方面 使用 FP 計(jì)算方法，同時(shí)顯示所有測(cè)試元素。并且結(jié)合雙彎晶特

點(diǎn)，一條曲線就能完成所有金屬類別檢測(cè)；而傳統(tǒng) XRF 需要應(yīng)對(duì)不同的基體，單獨(dú)曲

線，或者特殊材質(zhì)，特殊標(biāo)定校正，操作較麻煩。

產(chǎn)品方面

①  提供不同操作模式，即可定量分析，亦可便攜篩選。 可應(yīng)對(duì)不同場(chǎng)合測(cè)試需求

②  XOS 技術(shù)，涂層基材檢測(cè)能力，可應(yīng)對(duì)不同種類產(chǎn)品以及不同發(fā)展需求。

③ 不開放操作人員數(shù)據(jù)修正功能，源自于丹納赫以及 XOS 對(duì)旗下產(chǎn)品性能穩(wěn)

定性以及技術(shù)自信。

實(shí)際使用方面

① 針對(duì)樣品復(fù)雜多樣的客戶， 相對(duì)傳統(tǒng) XRF 儀器而言，結(jié)果更加真實(shí)、可靠、

穩(wěn)定。

② 1mm 小光斑可測(cè)試細(xì)小樣品及不規(guī)則樣品的細(xì)小部位。

③ 針對(duì)復(fù)雜的金屬樣品，其牌號(hào)、組成、工藝等方面的差異，都會(huì)造成儀器檢測(cè)的困難，

 相對(duì)傳統(tǒng) XRF 而言，不需要校準(zhǔn)曲線而統(tǒng)一采用 FP 無標(biāo)樣分析技

術(shù)，可以更好的應(yīng)對(duì)多種類型的樣品，省去測(cè)試人員區(qū)分樣品的工作環(huán)節(jié)，以及*

避免由此帶來的人為誤差

產(chǎn)品規(guī)格