詳細介紹
二手PE ICP光譜儀 ICP-8300DV基于可靠的 Optima 平臺設計,在業界的 Windows 7 兼容 WinLab32 軟件的控制下,8000 將令您對 ICP-OES 刮目相看。 該系列的超凡性能是通過優化進樣系統、增強等離子穩定性、簡化方法建立和大大降低操作成本的實現的。
各個實驗室對利用 ICP 的定義均大不相同。但是,無論您優先考慮的是精密度還是可靠性、是靈活性還是穩定性、是分析速度還是使用的簡便性,您都可以在 Optima 8300系列中找到理想的解決方案。
使用平板等離子體技術降低氬氣消耗
利用 PerkinElmer平板等離子體技術,氬氣消耗只有螺旋負載線圈系統的一半,即可形成同樣強健、同樣耐高鹽基體的等離子體。這種全新的射頻發生方式,可使射頻發生器免維護,從而上降低操作成本,同時不影響性能。平板等離子體技術在任意RF功率下只需 8 公升/分鐘的等離子體氣流量。
使用 eNeb 樣品導入系統可實現 2 到 4 倍的更佳檢出限
使用革新的 eNeb(電子噴霧器)系統,樣品可地更有效、更高效地導入 Optima 中。基于精密制造的惰性噴霧頭,eNeb 可形成直徑不超過 6 微米的大小一致的液滴。這些大小一致的小液滴可更快速干燥、霧化和電離,達到的檢出限比使用其他樣品導入系統可達到的檢出限好 2 到 4 倍。
eNeb 的噴霧頭采用堅固耐用的惰性聚合物制成,提供良好的基體相容性、耐酸性和精確性,是所有樣品類型(包括含有高鹽的樣品類型)的理想選擇。
高級光學系統確保的檢出限
為了增強光輸出量,Optima 儀器上的光學系統提供的檢測限,更容易滿足美國 EPA、EN 和 DIN 規定。使用熱穩定光學系統(型號 8300)可確保非凡穩定性和分析準確性。
等離子雙向觀測提高效率
可以使用同一種方法測量高濃度和低濃度的元素,從而提高處理量和效率。
軸向觀測提供檢出限,而徑向觀測的觀測高度可變,可擴充工作范圍和消除電離效應。
切割氣消除了干擾
這項革新技術通過消除離子的冷尾焰消除了干擾。由于它使用的是空氣,而不是氣體流量極大的抽風系統或者易于阻塞需要清洗的接口錐,尾焰切割系統免維護,可提高性能并使線性動態范圍更大。消除尾焰也從上降低了添加昂貴的電離抑制劑的需要。
可快速更換的可調節一體化炬管組件可簡化維護并優化性能
Optima 一體化炬管組件易于調節(無需工具),即使當 ICP 在運行時也如此,便于優化性能,甚至是對于最難的樣品亦如此。為增加靈活性,該儀器與各種噴霧器和噴霧室兼容,包括 eNeb、Scott/Cross Flow 和 Cyclonic/
Meinhard™ 多種選擇。
兩個高性能 SCD(譜線分隔式電荷耦合器件)檢測器增強準確性
Optima 8300 上的檢測器可在整個波長范圍內提供分辨率和性能(一個檢測器用于 UV,另一個檢測器用于 Vis),從而降低干擾和增強準確性。
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二手PE ICP光譜儀 ICP-8300DV平板等離子體技術
RF 發生器采用免維護的等離子體感應板,替代傳統的螺旋負載線圈。無需冷卻,氬耗降低,操作成本大大降低。
PlasmaCam 觀測相機
通過提供連續等離子觀測,該彩色內置相機簡化方法建立過程,使遠程診斷功能成為可能,以zei大程度增加正常運行時間。 非常適用于有關食品/產品安全和地球化學的高輸出合約實驗室。