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HTR-01 桌式4英寸快速退火爐
HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術，可實現1-10片樣品同時進行，可實現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統，可達到的溫場均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產起到重要作用。
主要應用領域：
產品特點
● 快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達50 ℃/s，特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率，特定條件下可達30 ℃/s。
● 精確控溫: 采用工業級溫控器進行PID精確控溫，目標溫度與設定溫度曲線一致性高，可實現室溫至1200 ℃的溫度精確控制。
● 適應多種工藝環境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理（氮氣、氬氣等）。同時，通過選配真空泵，可以在真空條件下進行退火，最高真空度可達10-5Pa。
● 配備觀察窗口: 通過觀察窗口，可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時，可以結合相關測試方法進行原位測試分析。
● 超高安全系數: 采用爐壁超溫報警系統和冷卻水流量報警系統，保障儀器使用安全。
● 售后服務：，能快速反應客戶售后需求。
最大樣品尺寸 | 4英寸（直徑20mm） |
控溫范圍 | RT~1200℃ |
升溫速率(max) | 50℃/s |
高溫段降溫速率（max） | 600℃/min |
溫度均勻性 | ≦1% |
控溫精度 | ±0.1℃ |
氣體流量 | 標配1路，可擴展至多路 |
放樣管徑 | Ф210mm*320mm |
放樣數量 | 4-10個 |
真空度 | 真空度可以達到10-5 |
控制方式 | 支持真空、氧化、還原、惰性氣體等工藝氣氛，也可設置通過軟件控制真空及通氣時間 |
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