齊岳科普:金屬鐵Fe/銅Cu修飾黑磷烯的制備方法

黑磷是一種具有金屬光澤的晶體，可由白磷或轉化而來，黑磷具有直接半導體帶隙，且表現出與層數相關的性質，少層黑磷的電子遷移率為1000cm2/V-1s-1，還具有高的漏電流調制率，使得其在未來的納米電子器件中的應用有很大潛力。

金屬鐵Fe修飾黑磷烯的制備方法，包括以下步驟：

步驟一、取，將其與Si襯底在真空環境下升溫至600-650℃，保持30-35分鐘，然后冷卻至室溫，得到覆有薄膜的Si襯底；

步驟二、取步驟(1)所得覆有薄膜的Si襯底，與Sn和SnI在26-27.8atm的保護性氣氛下，升溫至900-940℃保持30-32分鐘，然后逐漸降至室溫，得到覆有黑磷薄膜的Si襯底；

步驟三、將步驟(2)所得覆有黑磷薄膜的Si襯底放入Fe離子溶液中，反應后撈出Si襯底置于保護性氣氛下焙燒后冷卻，將Si襯底上的黑磷烯在電子顯微鏡下通過探針剝離的方法剝離得到負載Fe的少層黑磷烯。

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