Santec光功率計(jì)OPM-200
- 公司名稱 天津瑞利光電科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/4/12 14:13:22
- 訪問次數(shù) 177
聯(lián)系方式:經(jīng)理15522041291 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
光電設(shè)備、光學(xué)儀器、機(jī)電設(shè)備及配件、電氣成套設(shè)備、工業(yè)自動化控制設(shè)備、電子設(shè)備、智能設(shè)備、通訊設(shè)備、儀器儀表、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備、五金交電、電線電纜、環(huán)保設(shè)備、汽車配件、工藝品、辦公用品的銷售;自營和代理貨物及技術(shù)的進(jìn)出口業(yè)務(wù);光電設(shè)備安裝、調(diào)試及檢修
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣 |
---|
產(chǎn)品名稱: Santec光功率計(jì)OPM-200
產(chǎn)品型號: OPM-200
產(chǎn)品介紹: OPM-200 高性能光功率計(jì)是 Santec 新一代功率計(jì)。2 mm InGaAs 探測器可測量低至 -80 dBm 的功率,而積分球探測器可在 840 至 1700 nm 的寬波長范圍內(nèi)測量高達(dá) 30 dBm 的功率。OPM-200 具有高準(zhǔn)確度,可在 50 μS 至 1 秒之間選擇平均值,是一款可靠的功率計(jì),幾乎適用于任何應(yīng)用。將功率計(jì)集成到自動化流程中從未如此簡單。OPM-200 可通過 USB 或以太網(wǎng)以簡單的 SCPI 命令進(jìn)行編程。該探測器為自由空間型,與我們的產(chǎn)品 SD 滑動探測器適配器兼容。與模擬輸出一起,它是自動光學(xué)校準(zhǔn)的好選擇。此外,您還可以選擇 1 至 4 個(gè)檢測器和遙控頭選項(xiàng),以獲得靈活的功率計(jì)解決方案。OPM-200 的平均時(shí)間短至 50 μs,讀數(shù)穩(wěn)定,并具有 128,000 點(diǎn)數(shù)據(jù)記錄功能,可捕捉瞬態(tài)行為,適用于高速應(yīng)用。
性能特點(diǎn):
自由空間 2 毫米 InGaAs 或積分球探測器
波長范圍為 840 至 1700 nm
30 至 -80 dBm 功率范圍
50us 平均時(shí)間
觸摸屏顯示
USB 或以太網(wǎng)
產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與細(xì)節(jié):
OPM-200
校準(zhǔn)證書
探測器帽 (SD-CAP)
交流電源線
USB A 至 USB B 電纜(1.5 米)
以太網(wǎng)電纜(1.5 米)
可選功能與配件:
選配:遙控頭探測器和遙控頭電纜(1.5 米)
OPM-200 可配置 4 個(gè)探測器
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)地:日本
探測器類型:2 mm InGaAs
波長范圍:840 至 1700 nm
功率范圍:8 至 -80 dBm
參考條件下的不確定性:± 3.7% (840 至 1200 nm);± 2.7% (1200 至 1650 nm)
功率分辨率:0.001 dB
波長分辨率:1 nm
線性度 (dB):± 0.03 + 20 pW(840 至 1200 nm); ± 0.02 + 5 pW(1200 至 1650 nm)
偏振相關(guān)響應(yīng)度:0.015 dB
平均時(shí)間:50 μs至 1 s
模擬輸出:0 至 2.2 V8
數(shù)據(jù)記錄:每個(gè)探測器 128,000 個(gè)點(diǎn)
遠(yuǎn)程接口:USB 或以太網(wǎng)
顯示屏:5 "觸摸屏
輸入電壓:100- 240 伏交流電,50- 60 Hz
Max功耗 (VA):60
平均時(shí)間:≥ 10 毫秒
Max帶寬:10 kHz
裝置尺寸(寬x高x深):23.5 x 12 x 32.5 cm
遙控頭安裝孔螺紋尺寸:M 6
運(yùn)輸箱尺寸(寬x高x深):36.5 x 39 x 53 cm
單位重量:3 kg
裝運(yùn)總重量:4 kg
工作溫度:5 至 40 °C
存儲溫度:-40 至 70 °C
濕度(無冷凝):95 % 相對濕度
產(chǎn)品應(yīng)用:
光學(xué)校準(zhǔn)、收發(fā)器測試、激光器和放大器、鑒定、瞬態(tài)測試、實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)