“The Grand EPMA" 誕生

搭載zui*場發射電子光學系統 
將島津EPMA分析性能發揮到*

從SEM觀察條件到1μA量級，在各種束流條件下都擁有空間分辨率的*場發射電子光學系統。結合島津傳統的高性能X射線譜儀，將分析性能發揮至*。

當之無愧的“The Grand EPMA" ，zui高水準的EPMA誕生！

1　高亮度肖特基發射體 
場發射電子槍采用的肖特基發射體比一般傳統SEM使用的發射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析*的穩定大電流。

2　 EPMA電子光學系統 
電子光學系統，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側，交叉點不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的（日本：第4595778號）。簡單的透鏡結構，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設定zui合適的打開角度，將電子束壓縮到zui細。當然是不需要更換物鏡光闌的。

3　超高真空排氣系統 
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統。中間室與分析腔體間的氣流孔做到zui小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發射體穩定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀 
zui多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線的吸收，實現高靈敏度的分析。