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[供應(yīng)]共聚焦顯微系統(tǒng)*
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  • 共聚焦顯微系統(tǒng)*
貨物所在地:
江蘇蘇州市
更新時(shí)間:
2023-07-07 21:00:07
有效期:
2023年7月7日 -- 2024年1月7日
已獲點(diǎn)擊:
186
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共聚焦顯微系統(tǒng)
µsurf系列產(chǎn)品采用多孔共聚焦技術(shù),結(jié)合CCD的影像攝取,以有許多孔洞的旋轉(zhuǎn)盤取代偵測(cè)器的孔洞,再將物鏡垂直移動(dòng),以類似斷層攝影方式,可在短時(shí)間(約幾秒)內(nèi)精確量測(cè)物體的三維數(shù)據(jù)。其測(cè)量方式是非接觸式,不會(huì)破壞樣品的表面,不需要在真空環(huán)境下測(cè)量,也可以用顯微鏡測(cè)量的功能來觀測(cè)樣本,其在嚴(yán)酷的工作環(huán)境下,也能正常使用。

詳細(xì)介紹


共聚焦顯微系統(tǒng)應(yīng)用 
      μsurf系列用來測(cè)量表面物理形貌,進(jìn)行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓(縱深、寬度、曲率、角度)、表面粗糙度等。 
? 精密部件:檢測(cè)對(duì)表面磨損,表面粗糙度,表面微結(jié)構(gòu)有要求的零部件,比如發(fā)動(dòng)機(jī)汽缸、刀口等; 
? 生命科學(xué):測(cè)量stents支架上鍍層厚度等 
? 微電子機(jī)械系統(tǒng):微型器件的檢測(cè),醫(yī)藥工程中組織結(jié)構(gòu)的檢測(cè),如基因芯片等 
? 半導(dǎo)體:檢測(cè)微型電子系統(tǒng),封裝及輔助產(chǎn)品結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 
? 太陽(yáng)能:電池片柵線的3D形貌表征、高寬比測(cè)量,制絨后3D形貌表征(單晶金字塔大小、數(shù)量、角度,多晶腐蝕坑形貌、密度),粗糙度分析等 
? 紙張:紙張、錢幣表面三維形貌測(cè)量

共聚焦顯微系統(tǒng)技術(shù)參數(shù) 
LED光源:λ= 505 nm, MTBF: 50,000 h 
測(cè)量時(shí)間:5~10秒 
測(cè)量原理:非接觸、共聚焦 
X/Y方向,平臺(tái)移動(dòng)范圍:50mmX50mm,馬達(dá)驅(qū)動(dòng),分辨率:0.3μm 
Z方向測(cè)量范圍:250μm,分辨率:2nm 
物鏡:10X、20X、50X、100X(可選) 
計(jì)算機(jī):高性能計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng),功能全面的軟件,有拼接功能, 
工作電源:100-240V, 50-60Hz, input<45W 
材質(zhì):鋼鐵、橡膠、大理石 
外型尺寸:710x270x330 mm (HxD) 
重量:28KG 
潔凈室等級(jí): Capability class 6 (according to DIN EN ISO 14644)

共聚焦顯微系統(tǒng)
      μsurf系列產(chǎn)品采用多孔共聚焦技術(shù),結(jié)合CCD的影像攝取,以有許多孔洞的旋轉(zhuǎn)盤取代偵測(cè)器的孔洞,再將物鏡垂直移動(dòng),以類似斷層攝影方式,可在短時(shí)間(約幾秒)內(nèi)精確量測(cè)物體的三維數(shù)據(jù)。其測(cè)量方式是非接觸式,不會(huì)破壞樣品的表面,不需要在真空環(huán)境下測(cè)量,也可以用顯微鏡測(cè)量的功能來觀測(cè)樣本,其在嚴(yán)酷的工作環(huán)境下,也能正常使用。由于使用了共聚焦的方法,在測(cè)量漸變較大的高度時(shí),跟其他方法相比,可以更精確量測(cè)物體高度,建立3D立體影像,優(yōu)勢(shì)相當(dāng)明顯。 

      NanoFocus μsurf explorer精密測(cè)量、表面分析系統(tǒng)機(jī)臺(tái)功能齊全,結(jié)構(gòu)緊湊,性價(jià)比高,并擁有超高光學(xué)分辨率和zui全面廣泛的三維表面形貌分析能力。 

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