沈陽沐倫科技有限公司
主營產(chǎn)品: 全自動(dòng)纖維儀,全自動(dòng)脂肪儀,全自動(dòng)膳食纖維儀 |
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更新時(shí)間:2024-10-29 10:16:41瀏覽次數(shù):4259
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè) |
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CAMSIZER X2干濕兩用多功能粒徑及粒形分析儀是一款功能強(qiáng)大、用途極其廣泛的粒度粒形分析儀,其測(cè)量范圍寬,結(jié)合了優(yōu)良的雙CCD鏡頭技術(shù)和靈活的分散模塊選項(xiàng)。基于動(dòng)態(tài)圖像分析原理(ISO 13322-2),CAMSIZER X2可在0.8μm至8 mm的測(cè)量范圍內(nèi)提供粉末、顆粒和懸浮液的精確粒度粒形信息。
CAMSIZER X2產(chǎn)生的顆粒流,通過具有高分辨率光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行表征。一個(gè)超亮LED頻閃光源和兩個(gè)高分辨率數(shù)碼相機(jī),可以達(dá)到每秒300多張圖像的幀速率,并通過強(qiáng)大的軟件進(jìn)行實(shí)時(shí)評(píng)估。因此,CAMSIZER X2可以在1到3分鐘內(nèi)以最高的精確度捕捉數(shù)十萬到數(shù)百萬個(gè)顆粒的圖像。
CAMSIZER X2干濕兩用多功能粒徑及粒形分析儀提供了廣泛的顆粒信息選項(xiàng),實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品材料進(jìn)行全面和可靠的表征。它適用于研發(fā)和日常質(zhì)量控制。
優(yōu)點(diǎn):
▏ 采用動(dòng)態(tài)圖像法(ISO 13322-2)分析0.8 μm 到 8 mm之間的顆粒粒徑粒形信息
▏ 寬粒徑分布樣品的精確分析
▏ 對(duì)于窄分布及多峰分布樣品具有非常好的分辨率
▏ 微量過大或過小顆粒都能夠準(zhǔn)確檢測(cè)
▏ 結(jié)果可以和篩分及激光粒度儀結(jié)果進(jìn)行比對(duì)
▏ 分析評(píng)估選項(xiàng)豐富(不同粒徑定義的粒徑參數(shù),多種粒形參數(shù),顆粒圖庫,單張顆粒圖像分析等)
▏ 重現(xiàn)性非常好
▏ 典型測(cè)量時(shí)間1-3min,可測(cè)試樣品量大
▏ “X-Change“分散模塊切換系統(tǒng),適合干法和濕法測(cè)量
▏ 強(qiáng)LED光源及高分辨率相機(jī)以獲得最清晰的結(jié)果
▏ 操作簡單,幾乎免維護(hù)
由于雙鏡頭技術(shù),超寬的測(cè)量范圍:
Microtrac特別的雙鏡頭技術(shù)是動(dòng)態(tài)圖像分析發(fā)展的里程碑。通過同時(shí)使用兩個(gè)不同放大倍數(shù)的相機(jī),獲得了極寬的動(dòng)態(tài)測(cè)量范圍。這是在沒有硬件調(diào)整或修改的情況下完成的,并且不會(huì)影響精度。每個(gè)鏡頭專用于一個(gè)測(cè)量范圍。 放大鏡頭以最高的精度分析細(xì)顆粒,而基準(zhǔn)鏡頭以好的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)檢測(cè)較大的顆粒。一個(gè)特殊的算法結(jié)合了兩個(gè)相機(jī)提供的信息,并在測(cè)量范圍內(nèi)提供精確的粒徑分布,已有三十多年! 這種設(shè)計(jì)解決了許多圖像分析系統(tǒng)一個(gè)重大的缺點(diǎn),只使用一個(gè)鏡頭,如顯微鏡。這種儀器要么在寬粒徑分布范圍內(nèi),不能正確地測(cè)量細(xì)顆粒,要么由于視野小而無法準(zhǔn)確捕獲大顆粒。
測(cè)量原理:
在測(cè)量過程中,雙CCD鏡頭同時(shí)工作:基準(zhǔn)鏡頭(藍(lán)色)分析較大的顆粒,放大鏡頭(紅色)捕捉較小的顆粒。雙CCD鏡頭技術(shù)可確保粒度分布中所有顆粒的最佳測(cè)量條件。
X-CHANGE模塊切換系統(tǒng):
在顆粒通過測(cè)量區(qū)域之前,正確的樣品制備和顆粒分散與實(shí)際分析測(cè)量一樣重要。特別是對(duì)于容易團(tuán)聚的細(xì)粉顆粒,充分分散對(duì)測(cè)量結(jié)果的可靠性至關(guān)重要。因此,不同的進(jìn)樣方式有助于在不破壞單個(gè)顆粒的情況下實(shí)現(xiàn)團(tuán)聚體的分散。我們的X-Change分散模塊切換系統(tǒng)滿足了這一要求。
CAMSIZER X2的模塊化“X-Change"系統(tǒng)提供三種可選分散方法,允許為每種樣品類型選擇最佳分散方法:壓縮空氣分散X-jet、重力分散X-Fall、濕法分散X-Flow。模塊化及插拔式設(shè)計(jì),允許在一分鐘內(nèi)方便安全快速地交換分散模塊。
X-JET壓縮空氣分散
由于表面作用力,許多材料容易團(tuán)聚。在通過文丘里噴嘴時(shí),X-Jet模塊有效地分散氣流中的顆粒。分散壓力可根據(jù)單個(gè)顆粒的需要設(shè)置。例如,對(duì)于易碎顆粒,減壓可確保無損測(cè)量。通過測(cè)量區(qū)域后,樣品由真空吸塵器自動(dòng)從分析儀中取出。
X-FLOW濕法分散模塊測(cè)量
X-Flow濕法分散模塊分析0.8μm至1 mm粒徑范圍內(nèi)的懸浮液。樣品在從分散槽到流動(dòng)池的閉環(huán)內(nèi)移動(dòng),在樣品池中,雙CCD相機(jī)系統(tǒng)捕捉顆粒圖像。X-Flow分散模塊配有超聲波浴和強(qiáng)大的離心泵,以確保高效分散。適合的分散介質(zhì)是水、乙醇以及非極性有機(jī)溶劑。
X-FALL重力分散模塊
使用X-Fall模塊可以分析流動(dòng)的、不易團(tuán)聚的樣品。這種測(cè)量是無損 的,因?yàn)轭w粒通過視野直接從斜槽落下。X-Fall適用于粒徑最高可達(dá)8 mm的顆粒;對(duì)過大顆粒的檢測(cè)靈敏度很高。與壓縮空氣分散不同的是,X-Fall測(cè)量后樣品可以回收。
擴(kuò)大測(cè)量范圍:
由于特別的雙CCD鏡頭系統(tǒng),單次測(cè)量包含所有量程,無需手動(dòng)調(diào)整。
▏ X-Fall (重力分散)
標(biāo)準(zhǔn)量程: 10 µm -3 mm
可選量程: 10 µm - 8 mm
▏ X-Jet (空氣壓力分散)
標(biāo)準(zhǔn)量程: 0.8 µm-1.5 mm
可選量程: 1 µm - 5 mm
▏ X-Flow (濕法分散)
標(biāo)注量程: 0.8 µm - 1 mm
1) X-Fall的下限取決于樣品的特性(團(tuán)聚與否),易團(tuán)聚樣品推薦使用X-Jet或X-Flow模塊。
3) X-Flow模塊的測(cè)量上限取決于樣品的密度,對(duì)于密度上限是2.5g/cm3的樣品來說600µm是標(biāo)準(zhǔn)極限。
纖維和拉伸狀樣品可定制量程。
典型應(yīng)用:
散裝物料的許多特性,例如流動(dòng)性、溶解性、過濾效率、反應(yīng)性、耐磨性和氣味等,都主要受粒度的影響。因此,粒度確定在許多不同的工業(yè)分支中都被作為質(zhì)量控制的一部分。
金屬和礦物粉末、水泥、化學(xué)試劑、活性炭、清潔劑、建筑原料、藥粉/顆粒/制劑、玻璃 / 玻璃珠、塑料光纖、塑料粉末、木質(zhì)纖維、食物、鹽 / 糖、耐火材料、研磨料、砂子等
技術(shù)參數(shù):
測(cè)量原理 | 動(dòng)態(tài)圖像分析(ISO 13322-2) |
測(cè)量范圍 | 0.8 µm to 8 mm 10 µm to 8 mm (自由落體分散模式) 0.8 µm to 5 mm (壓縮空氣分散模式) 0.8 µm to 1 mm (液體分散模式) |
分析類型 | 干法和濕法分析 |
測(cè)量時(shí)間 | ~1-3分鐘(視待測(cè)樣品進(jìn)樣量) |
鏡頭數(shù)量 | 2 |
樣品量 | < 20 mg - 500 g(視待測(cè)樣品性質(zhì)和測(cè)量模式) |
測(cè)量方式< | > 300 images/s, 每張約4.2 MPixel |
測(cè)量區(qū)域?qū)挾?/span> | ~ 20 x 20 mm |
分辨率 | 0.8µm每像素 |
測(cè)量參數(shù) | 粒度(最小粒徑、長度、平均直徑等) 顆粒形狀(縱橫比、對(duì)稱性、球形度、凹凸性等,依據(jù)ISO 9276-6標(biāo)準(zhǔn)) |
設(shè)備尺寸(寬x高x深) | ~ 850 x 580 x 570 mm |
重量 (測(cè)量單元) | ~ 50 kg |
操作單元 | 四核PC,包括Windows 10、顯示器、鍵盤和鼠標(biāo)、網(wǎng)卡、用于硬件通信的PC接口卡、評(píng)估軟件 |
作用原理:
Camsizer X2 采用特別的數(shù)字成像體統(tǒng):分散樣品經(jīng)過LED光源前方,投影被雙CCD鏡頭捕捉,放大鏡頭分析小顆粒,基礎(chǔ)鏡頭統(tǒng)計(jì)整個(gè)顆粒分布。軟件界面友好,可同時(shí)分析每一個(gè)顆粒的粒度和粒形信息,最終經(jīng)過軟件計(jì)算后給出實(shí)時(shí)分布曲線。
保留技術(shù)變更和出錯(cuò)的權(quán)利