產品簡介
是專業的化學發光凝膠成像分析系統,可對對ECL發光等直接曝光成像,并獲得實驗結果。以往實驗室主要使用暗室曝光壓片進行ECL檢測,但建造暗室成本高而且浪費實驗室空間,曝光步驟繁瑣,沖洗X膠片時還會接觸到有毒的化學試劑。化學發光成像系統的使用已經逐漸取代傳統的暗室壓片曝光檢測。
詳細介紹
簡介:
上海慶開實驗設備有限公司生產的QKJS-1050Mini全自動化學發光圖像分析系統是專業的化學發光凝膠成像分析系統,可對對ECL發光等直接曝光成像,并獲得實驗結果。以往實驗室主要使用暗室曝光壓片進行ECL檢測,但建造暗室成本高而且浪費實驗室空間,曝光步驟繁瑣,沖洗X膠片時還會接觸到有毒的化學試劑。化學發光成像系統的使用已經逐漸取代傳統的暗室壓片曝光檢測。
化學發光凝膠成像分析系統性能特點:
? 可通過 F/0.95, 高清晰大口徑高通透定焦鏡頭與高靈敏度數碼制冷CCD的*結合,使實驗者擺脫煩瑣的傳統暗室X膠片曝光方式,方便快速高效地獲得化學發光的實驗結果。
?可通過電腦進行焦距及反射光源的全自動控制;
?可通過電腦進行化學發光圖像的實時觀測;
?可通過一次拍攝無需任何操作即可將marker圖像與化學發光圖像自動疊加并且自動生成三種不同效果的化學發光圖像;
?可通過一鍵拍攝 :無需揣摩曝光時間,一鍵完成western blot結果成像
?可設定連續采樣的次數、并可終止曝光時間,進行動態連續拍攝方便獲得*條件和效果的實驗結果;
化學發光凝膠成像分析系統應用范圍 :
? 應用范圍 化學發光檢測Western Lightning、 ECL、ECL plus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、 LumiGlo等發光底物;
化學發光凝膠成像分析系統技術參數 :
? 致冷CCD:美國原裝品牌高分辨率低照度數碼制冷CCD芯片Sony ICX285
?冷卻方: 半導體制冷
?冷卻溫度:低于環境溫度65℃(溫度-45℃,動態可調實時顯示CCD制冷溫度)
?有效像素: 1390×1040 (145萬像素)
?像素合并: 1×1,2×2,3×3,4×4
?鏡頭:F/0.95, 4/3英寸高清晰大口徑高通透定焦鏡頭,可通過計算機對焦距電動調整
?數據位數:16 bit(65536灰階)
?感光效率: CCD芯片光電轉換效率:High QE: 62%
?像素點大小: 6.45um×6.45um n 動態范圍 ﹥4個數量級
?變 焦: 標配抽屜式雙位載物對焦平臺,可兼容拍攝各種厚度的樣品
? 一次拍攝無需任何操作即可將marker圖像與化學發光圖像自動疊加并且自動生成三種不同效果的化學發光圖像
?一鍵拍攝: 無需揣摩曝光時間,一鍵完成western blot結果成像
?輔助光源 透射:LED白光板; 雙側反射:反射白光燈(冷光)可通過計算機對透射和反射白光燈進行強度調整
?濾色鏡片: 無
?控制: 高度程序化電腦控制暗箱
?定時關機: 0-60分鐘定時關機功能
?拍攝面積: 15×15cm
?紫外透射載樣板: 無
?企業認證: 上海市“*”和“上海市科學技術獎”三等獎
?外觀尺寸: 長39CM×寬35CM×高59CM
?軟件:ECL SensiAnsys專業凝膠圖像采集分析處理軟件
ECL SensiCapture專業凝膠圖像采集軟件