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| 應用領域 | 綜合 |
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為對任意樣品進行高水準的成像和分析而生
蔡司GeminiSEM 系列產品具有出色的探測效率，能夠輕松地實現亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細節信息靈敏度讓您在對任意樣品進行成像和分析時都具備更佳的靈活性，為您在材料科學研究、生命科學研究、工業實驗室或是顯微成像平臺中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像，提供靈活、可靠的場發射掃描電子顯微鏡技術和方案。
Gemini 1 –成熟的Gemini技術概覽
場發射掃描電子顯微鏡具有更高的分辨率，離不開其性能優異的電子光學鏡筒。蔡司Gemini技術專為對任意樣品進行高分辨成像設計，尤其在低電壓下保持完整和高效的探測系統、出色的分辨率和易用性等特點。
蔡司Gemini電子光學鏡筒具有以下三個主要特點
蔡司Gemini物鏡的設計結合了靜電場和磁場，在提高其電子光學性能的同時將它們對樣品的影響降至更低。無漏磁物鏡設計，可以對如磁性材料等挑戰的樣品同樣地進行高品質成像；
蔡司Gemini電子束推進器技術，讓電子束經過加速后以高電壓通過鏡筒，最終再減速至設定電壓后進入樣品倉，很大程度地減小電子束的像差，保證了在非常低的加速電壓下仍可獲得小束斑和高信噪比；
蔡司Gemini 鏡筒的設計理念將Inlens二次電子（SE）和背散射電子（BSE）探測器均放置在鏡筒內正光軸上，使兩者均具有更高的信號采集效率且可以同時成像，有效的縮短了獲取圖像的時間，更好地提高工作效率。
蔡司Gemini技術優勢能為您提供以下便利：
經校準后的鏡筒具有長期的穩定性，您在日常使用時只需要簡易地設定基本的參數，如加速電壓、探針電流等；
無漏磁的物鏡設計，可對包括磁性樣品在內的各類型樣品進行無畸變、高分辨率的成像；
Inlens二次電子探測器具有高效的SE 1信號采集效率，給您呈現來自樣品極表面的真實形貌圖像；
鏡筒內能量過濾背散射探測器以其創新的設計理念，使您在低電壓下可獲得高分辨率、高襯度、以及更真實的樣品材料襯度圖像。
更強的信號，更豐富的細節
GeminiSEM 500 為您呈現任意樣品表面更強的信號和更豐富的細節信息，尤其在低的加速電壓下，在避免樣品損傷的同時快速地獲取更高清晰度的圖像。
更高的速度與靈敏度，更好的成像和分析
GeminiSEM 450更快的響應和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，簡便、快速地進行EDS能譜和EBSD等分析，同時保持出色的空間分辨率，充當您的得力助手。
更靈活的成像方式
無論是資深用戶還是初學者，GeminiSEM 300將讓您體驗到在更高的分辨率和更佳的襯度下進行極大視野范圍成像的樂趣，并且在高真空或是可變壓力模式下都可以實現。
蔡司 GeminiSEM系列場發射掃描電子顯微鏡
高分辨，不挑樣
長久以來，蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM一直是高分辨力與寬樣品適用性的代名詞。無論您從事的研究方向是什么，GeminiSEM都可以滿足您的需求。創新的電子光學系統和新型樣品腔室設計可讓您擁有更佳的圖像質量、易用性和靈活性。蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM兼具出色的成像和分析能力，不依靠浸沒式物鏡依然可以輕松實現1 kV以下的亞納米級分辨力。以下內容可以使您進一步了解Gemini電子光學系統的三大設計，探索蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM的應用潛能。
更靈活的成像工具 – 配備Gemini 1鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360可以實現各種樣品的高分辨成像、分析和各種應用需求的拓展。
更強大的分析能力 - 配備Gemini 2鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460可應對更加復雜的分析工作。連續可調的大束流使您可以在成像和分析條件之間無縫切換。
更高的表征體驗 - 蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560配有Gemini 3鏡筒及其新型電子光學引擎，讓它在各種工作條件下均可發揮該系列的分辨率特性。
靈活的樣品適用性
場發射掃描電鏡GeminiSEM 360是中心實驗室的理想選擇，在科研和工業中具有非常高的通用性。
產品搭載Gemini 1鏡筒，在低電壓下依然具有高分辨成像能力，讓您輕松獲取樣品極表面高分辨信息。
通過鏡筒內二次電子和背散射電子同時成像，即使對于電子束敏感樣品也可以獲取高分辨的表面形貌和成分襯度。
在低真空下（NanoVP）拍攝不導電樣品時，依然可以通過鏡筒內Inlens探頭獲得優異襯度：無荷電高分辨。
出色的用戶體驗
場發射掃描電鏡GeminiSEM 360可提供出色的用戶體驗：該產品具有廣闊的視野范圍和大體積腔室，可以輕松檢測大尺寸樣品。
利用蔡司ZEN Connect軟件可在多種顯微鏡（例如光鏡、電鏡、X射線顯微鏡）之間進行無縫導航。
使用蔡司自動對焦和智能探測器等自動功能輕松采集清晰、銳利的圖像。
具有對稱的EDS端口和共面的EDS / EBSD幾何設計，可高效執行成像和分析工作流程。
可有效延長系統正常運行時間，并讓您從容地進行計劃內維護。
優異的功能擴展性
可升級的系統可有效減少重復投資。因此，我們將場發射掃描電鏡GeminiSEM 360融入蔡司ZEN core軟件生態系統中。
ZEN軟件生態系統包括：ZEN Connect可關聯多儀器、多尺度數據；ZEN Intellesis是基于AI的自動分析工具； ZEN數據存儲功能可以讓您在一個數據中心節點上管理不同儀器的實驗數據。
可訪問作為APEER社區成員的其他用戶創建的工作流和腳本，幫助您解決難題。
.明確的升級路徑幫助您的設備更好地升級最新的功能。
利用高分辨率和大束流
場發射掃描電鏡GeminiSEM 460專為有挑戰性的分析任務而設計，可進行高效分析和自動的工作流程。
Gemini 2鏡筒可快速執行高分辨成像和大束流分析：從小束流-低電壓無縫切換到大束流-高電壓。
并行使用多個探測器，提供樣品的數據。
多接口腔室設計可兼容更多探測器，以進行高效分析。
使用新的VP模式在大束流下采集EBSD譜圖可達4000點/秒的標定率。
對于化學成分和晶體取向的分析，具有兩個對稱的EDS端口和共面的EDS/EBSD幾何學設計，可實現更快速度且無陰影的面分析結果。
定制化的自動化工作流程
強大的分析功能與自動化流程相結合，讓您的分析工作更進一步。并且蔡司還可以通過Python腳本來定制您自己的自動化實驗。
修改實驗過程并根據您的要求定制結果輸出。
STEM三維成像功能：將自動傾斜和旋轉與蔡司特征點跟蹤相結合。將所有自動對齊的圖像發送到專有的3D重構軟件后，生成具有納米級分辨率的3D形貌。
當您需要測試材料的加工特性時，蔡司將為您提供自動化的原位加熱和拉伸實驗平臺：它可以讓您自動觀察在加熱和拉伸條件下的材料，同時動態繪制應力-應變曲線。
為您帶來更多可能性
基于Gemini 2鏡筒設計，即使在低電壓時，也可以通過調高束流密度來提高分析能力。
能夠使系統與各種配件相兼容。多功能型腔室不僅可以配置分析附件，還可以配置原位臺、冷凍傳輸系統和納米探針。
.因此，您可以隨時對儀器進行配置更改和升級。
所有GeminiSEM均已融入蔡司ZEN core生態系統，您可以利用ZEN Connect、ZEN Intellesis和ZEN分析模塊，以獲取報告和GxP工作流程。
表面成像的新標準
場發射掃描電鏡GeminiSEM 560全面提升你的電鏡體驗，即使在1kV以下也可以很輕松地對電子束敏感的樣品進行無畸變高分辨的成像。
Gemini 3鏡筒搭載Nano-twin物鏡和新型電子光學引擎Smart Autopilot，可在1 kV以下對樣品進行1 nm以下分辨率的無漏磁成像-無需樣品臺偏壓或單色器。
通過新的可變氣壓模式和檢測系統對不導電及氣壓敏感的樣品進行成像：將真空敏感樣本通過低真空樣品交換室進入電鏡腔室，可以維持樣品最本征的結構后快速成像。
利用帶雙EDS接口的新型大型腔室，輕松分析復雜樣品。通過優化的探測器幾何設計確保快速、無陰影的圖像。
融合專業知識
新的電子光學引擎Smart Autopilot可全面提升對高難度樣品的成像體驗。
新系統的大視野功能可讓您輕松進行樣品導航。
Smart Autopilot可讓您節省時間，同時避免進行復雜的的光路對中：該引擎可自動調整光路，讓圖像從一倍放大至五十萬倍時始終保持光路對中聚焦良好的狀態。
Smart Autopilot包含蔡司自動對焦和自動光路對中功能，可在幾秒內為您提供清晰、銳利的圖像。
Python腳本能夠在自動化工作流程（例如3D STEM斷層成像）中集成軟件功能。
體驗出色的襯度
樣品拍攝中的最佳成像條件，意味著您結合了最佳的參數組合來獲得圖像：所以拍圖訣竅就是找到它。
Gemini鏡筒技術及其無漏磁成像技術和全新的Gemini 3鏡筒可使您找到這些最佳成像條件，并從樣品中發現新的信息。
場發射掃描電鏡GeminiSEM 560可以輕松拍攝磁疇襯度，它在樣品上的磁場小于2 mT。
使用帶能量過濾器的Inlens背散射探測器進行能量分辨背散射電子成像，同時通過環形背散射探測器進行角分辨背散射電子成像。
通過ZEN Connect對所有數據進行整合，輕松生成報告。
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