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　　二氧化硅分析儀(Silicon Dioxide Analyzer)是一種常用于工業生產中分析固體或液體樣品中二氧化硅含量的儀器。其原理是利用高溫燃燒后樣品中的二氧化硅與循環空氣中的鈉堿金屬生成草酸鹽，再被酞菁鈷吸收發射光譜分析得到。通常被廣泛應用于玻璃、陶瓷、建材、電子、冶金、石油等多個領域。其有許多優點，如高度自動化、分析速度快、精度高、重復性好等。由于二氧化硅是一種非常重要的工業原料，因此該儀器在工業生產線上具有不可替代的作用。通常由五個部分組成：樣品處理單元、加熱單元、燃燒單元、草酸鹽生成裝置和檢測單元。其主要原理如下：
 

　　樣品處理單元：將待分析的固態或液態樣品加工成適合分析的形式加入到分析系統中；
 

　　加熱單元：將樣品等加熱至高溫狀態，這有助于分析過程中二氧化硅的分解反應，同時使物料揮失不需要的水分和雜質；
 

　　燃燒單元：將加工好的樣品進行燃燒，使較高濃度的二氧化硅被氣態化并進入草酸鹽生成裝置；
 

　　草酸鹽生成裝置：將氣態的二氧化硅與循環空氣中的鈉堿金屬反應生成草酸鹽，從而實現對二氧化硅的有效吸收；
 

　　檢測單元：通過吸收草酸鹽反應產生的特定光譜發射信號，并據以計算出樣品中二氧化硅的含量。
 

　　值得注意的是，該儀器使用時需要嚴格控制儀器中的氧氣濃度和反應溫度等參數，以確保測試數據的準確性。同時，為避免干擾因素的影響，還需在運行過程中經常清洗分析系統和更換化學試劑等。
 

　　二氧化硅分析儀的操作使用可以按照以下步驟進行：
 

　　1.根據要測量的樣品類型和測試要求，選取合適的樣品，并按照說明書操作將其制樣并儲存。
 

　　2.接通電源后，在主機上打開電源開關，待屏幕亮起并進入測試狀態時即可進行下一步操作。
 

　　3.將制好的樣品放入試樣池內，并根據說明書設置測試參數，如溫度范圍、時間等參數。在配置好所有參數之后，單擊“開始”按鈕開始測試過程。
 

　　4.測試完成后，將獲得二氧化硅含量的數據，并且顯示在屏幕上，可保存該數據以供參考和分析。
 

　　5.測試過程結束后，需要對設備進行清潔工作，以便下次使用，清洗步驟需要謹慎按照設備說明書的要求進行。