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當前位置：上海添時科學儀器有限公司>>制膜設備>>磁控濺射鍍膜>> GSL-CKJS-560-B2磁控濺射
主要特點：
1、真空度高。
2、可制備多種薄膜，金屬、半導體、絕緣體等，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
4、清理安裝便捷。
5、控制可選一體化觸摸屏控制
技術參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | GSL-CKJS-450-B1磁控濺射 | |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備實驗氣體氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、場地：設備尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、主濺射室尺寸：?560×355mm梨形真空室 2、主濺射室真空度：5×10-6Pa 3、進樣室尺寸: ?255×430mm 4、進樣室真空度：5×10-4Pa 5、永磁靶5套，靶材尺寸φ2″，各靶射頻與直流濺射兼容（其中1個靶可濺射鐵磁材料） 6、公轉(zhuǎn)樣品臺6個工位，5個水冷工位，1個加熱工位，加熱工位最高溫度 600℃±1℃ 7、樣品尺寸：φ1″，可放置6片 8、基片可加-200V負偏壓 9、進樣室可一次性安裝6片樣品，可對被鍍樣品進行退火處理，退火溫度 800℃±1℃ 10、進樣室可對基片進行反濺清洗 11、進樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機構(gòu)進行樣品傳遞 | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 整機尺寸：2700×900mm×2000mm。 | |
| 標準配件 | 1、電源控制系統(tǒng)1套 2、真空獲得系統(tǒng)1套 3、真空測量裝置1套 | |
