產品簡介
詳細介紹
NanoCalc薄膜反射測量系統 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同,可以分析單層或多層膜厚。 產品特點
操作理論zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。 查找n和k值可以進行多達三層的薄膜測量,薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫,用戶也可以自己添加和編輯。 應用NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量,包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的抗反射涂層、抗磨涂層等。 NanoCalc系統
NanoCalc規格
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NanoCalc薄膜反射測量系統 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同,可以分析單層或多層膜厚。 產品特點
操作理論zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。 查找n和k值可以進行多達三層的薄膜測量,薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫,用戶也可以自己添加和編輯。 應用NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量,包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的抗反射涂層、抗磨涂層等。 NanoCalc系統
NanoCalc規格
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NanoCalc薄膜反射測量系統 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同,可以分析單層或多層膜厚。 產品特點
操作理論zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。 查找n和k值可以進行多達三層的薄膜測量,薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫,用戶也可以自己添加和編輯。 應用NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量,包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的抗反射涂層、抗磨涂層等。 NanoCalc系統
NanoCalc規格
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薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同,可以分析單層或多層膜厚。
產品特點
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可分析單層或多層薄膜
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分辨率達0.1nm
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適合于在線監測
操作理論
zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。
查找n和k值
可以進行多達三層的薄膜測量,薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫,用戶也可以自己添加和編輯。
應用
NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量,包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的抗反射涂層、抗磨涂層等。
NanoCalc系統
NC-UV-VIS-NIR | |
重量: | 250-1100 nm |
厚度: | 10 nm-70 m |
光源: | 氘鹵燈 |
NC-UV-VIS | |
重量: | 250-850 nm |
厚度: | 10 nm-20 m |
光源: | 氘鹵燈 |
NC-VIS-NIR | |
重量: | 400-1100 nm |
厚度: | 20nm-100µm (可選1µm-250µm) |
光源: | 鹵燈 |
NC-VIS | |
重量: | 400-850 nm |
厚度: | 50 nm-20μm |
光源: | 鹵燈 |
NC-NIR | |
重量: | 650-1100 nm |
厚度: | 70 nm-70μm |
光源: | 鹵燈 |
NC-NIR-HR | |
重量: | 650-1100nm |
厚度: | 70 nm-70μm |
光源: | 鹵燈 |
NC-512-NIR | |
重量: | 900-1700 nm |
厚度: | 50 nm-200μm |
光源: | 高亮度鹵燈 |
NanoCalc規格
入射角: | 90° |
層數: | 3層以下 |
需要進行參考值測量: | 是 |
透明材料: | 是 |
傳輸模式: | 是 |
粗糙材料: | 是 |
測量速度: | 100ms - 1s |
在線監測: | 可以 |
公差(高度): | 參考值測量或準直(74-UV) |
公差(角度): | 參考值測量 |
微黑子選項: | 配顯微鏡 |
顯示選項: | 配顯微鏡 |
定位選項: | 6"和12" XYZ 定位臺 |
真空: | 可以 |