當(dāng)前位置:復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司>>公司動(dòng)態(tài)>>飛納電鏡展會(huì)邀請(qǐng) | 第十三屆華北五省市化學(xué)學(xué)術(shù)研討會(huì)
飛納電鏡展會(huì)邀請(qǐng) | 第十三屆華北五省市化學(xué)學(xué)術(shù)研討會(huì)
第十三屆華北五省市化學(xué)學(xué)術(shù)研討會(huì)(HBHX 2019)將于 2019 年 8 月 10 日 - 13 日在天津召開。
時(shí)間:2019 年 8 月 10 日 - 13 日
地址:天津匯高花園酒店
會(huì)議主題
1. 無機(jī)化學(xué)
2. 有機(jī)化學(xué)
3. 分析化學(xué)
4. 物理化學(xué)
5. 高分子物理與化學(xué)
6. 理論計(jì)算化學(xué)
7. 能源材料化學(xué)
8. 化學(xué)教育
9. 化學(xué)相關(guān)交叉學(xué)科
飛納電鏡展位:3 號(hào)展位
荷蘭飛納推出肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源,集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體的臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡能譜一體機(jī) Phenom LE。
放大倍數(shù) 50 萬倍,分辨率優(yōu)于 2.5 nm@15kV。
高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源,使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像。Phenom LE 低電壓成像優(yōu)勢(shì)明顯,可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透,zui大程度還原樣品真實(shí)形貌。