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北京慧龍環科環境儀器有限公司
主營產品： 奧立龍水質分析儀,WTW水質分析儀 |
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TXRF8全反射X射線熒光分析儀
| 參考價 | 面議 |
具體成交價以合同協議為準
- 型號 TXRF8
- 品牌
- 廠商性質 經銷商
- 所在地 北京市
更新時間：2016-09-05 13:41:10瀏覽次數：3843
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TXRF8全反射X射線熒光分析儀
關鍵詞：TXRF8全反射X射線熒光分析儀、TXRF8全反射X射線熒光分析儀、慧龍環科
全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EDXRF方法的*性。它突出的優點是檢出限低（pg、ng/mL級以下）、用樣量少（μL、ng級）、準確度高（可用內標法）、簡便、快速，而且可進行無損分析，成為一種不可替代的全新的元素分析方法。上每兩年召開一次TXRF分析技術討論會，該技術被譽為在分析領域是具有競爭力的分析手段、在原子譜儀領域內處于地位。
在X熒光譜儀范圍內，與波長色散譜儀（WDXRF）方法比較，由于TXRF分析技術用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強或減弱效應，不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內標法，對環境溫度等要求很低。因而在簡便性、經濟性、用樣量少等方面，都比WDXRF方法有明顯的*性。
在整個元素分析領域內，TXRF技術可以對從鈉（11Na ）到鈾（92U）的所有元素進行分析，一次可以對近30種元素進行同時分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析（NAA）等方法相比較，TXRF分析方法在快速、簡便、經濟、多元素同時分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優勢。
TXRF8雙光路全反射X熒光分析儀，其性能優良，質量可靠，是分析人員的好幫手。該產品通過了國家制造計量器具CMC認證，還通過了省部級專家鑒定，認定“其主要技術指標處于國內，達到了*水平”，其后又經過多年的應用研究和改進提高，目前TXRF8雙光路全反射X熒光分析儀已推廣使用，在快速定性定量分析、貴金屬分析、濕法冶金元素分析中都有著*的優勢。
◇ 應用領域：
TXRF在元素分析領域內的應用現狀和發展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫藥、環保、法檢、考古、高純材料等等各領域內的常量、微量、痕量元素分析測定，特別在半導體工業中的硅表面質量控制方面，有著不可替代的優勢，目前已在上得到廣泛應用。
地礦：金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長石、氧化銻
冶金：鎳電解液、銅陽極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜純Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承
化工：柴油中的硫含量、各種催化劑、陶瓷釉料
環境保護：自來水、大氣飄塵、污水污泥
生物：海洋動物牙齒和體液
醫藥：頭發和指甲中的有益有害元素、丹參中的有害微量元素
食品：飲料中的元素
刑偵法醫：現場樣品鑒定
考古：青銅器等
材料：高純石英雜質含量，KTP晶體注入Er的認定
TXRF在元素分析領域內的應用現狀和發展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫藥、環保、法檢、考古、高純材料等等各領域內的常量、微量、痕量元素分析測定，特別在半導體工業中的硅表面質量控制方面，有著不可替代的優勢，目前已在上得到廣泛應用。
地礦：金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長石、氧化銻
冶金：鎳電解液、銅陽極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜純Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承
化工：柴油中的硫含量、各種催化劑、陶瓷釉料
環境保護：自來水、大氣飄塵、污水污泥
生物：海洋動物牙齒和體液
醫藥：頭發和指甲中的有益有害元素、丹參中的有害微量元素
食品：飲料中的元素
刑偵法醫：現場樣品鑒定
考古：青銅器等
材料：高純石英雜質含量，KTP晶體注入Er的認定
TXRF8全反射X射線熒光分析儀特點：
1. 多元素同時分析：一次可分析近30種元素；
2. 檢出限低：
低檢出限：pg級（10－12g）；
低相對檢出限：ng/mL級（10－9）；
低檢出限：pg級（10－12g）；
低相對檢出限：ng/mL級（10－9）；
3. 靈敏度高：
采用了高靈敏度、高計數率的硅漂移（SDD）檢測器
采用特殊的二次全反射光路使儀器在不同能量范圍都能有較高靈敏度。
采用了高靈敏度、高計數率的硅漂移（SDD）檢測器
采用特殊的二次全反射光路使儀器在不同能量范圍都能有較高靈敏度。
4. 測量元素范圍廣
可以從11號元素Na到92號元素U；
可以從11號元素Na到92號元素U；
5. 樣品用量少
μL、μg級；
μL、μg級；
6. 直接測量
粉末樣品、懸浮液樣品等有平面的樣品都可直接進行分析，低檢出限達到ng/g量級；
粉末樣品、懸浮液樣品等有平面的樣品都可直接進行分析，低檢出限達到ng/g量級；
7. 測量時間短
一般在100秒～1000秒；
一般在100秒～1000秒；
8. 安全穩定
使用功率小于0.5kW，無須大功率，安全可靠。
使用功率小于0.5kW，無須大功率，安全可靠。
9自動化程度高，操作方便
10.應用領域廣：適合于各種樣品類型和應用領域；
TXRF8全反射X射線熒光分析儀技術參數：
主要性能指標：
1.低檢出限：pg級（10－12g）；
2.低相對檢出限：ng/mL級（10－9）；
3.重復性：1%-3%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L）
4.穩定性：2%-4%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L）
5.單次可同時分析元素數量：近30種；
6.分析元素范圍：Na-U
7.樣品用量：μL、μg級；
8.定量方法：基本參數法；內標法；
9.測量時間：少于1000S
10激發功率：小于500W
1.低檢出限：pg級（10－12g）；
2.低相對檢出限：ng/mL級（10－9）；
3.重復性：1%-3%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L）
4.穩定性：2%-4%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L）
5.單次可同時分析元素數量：近30種；
6.分析元素范圍：Na-U
7.樣品用量：μL、μg級；
8.定量方法：基本參數法；內標法；
9.測量時間：少于1000S
10激發功率：小于500W
配置：
1. 光路系統：以光學玻璃為基體材料的基于全反射原理的雙光路全反射系統，包括光路、狹縫限束光欄及密封件殼。
2. 光源系統：高壓電源系統，雙X射線管激發系統，水冷及控制系統
3. 數據獲取系統：硅漂移探測器（SDD）、譜儀放大器、多道分析器
4. 機械調節系統：控制板卡，固態繼電器組，步進電機及相關對X射線管和樣品托運動機械系統和傳感器
5. 計算機、打印機
6. 軟件系統：獲取軟件、分析應用軟件
7. 機柜
8. X射線屏蔽系統
1. 光路系統：以光學玻璃為基體材料的基于全反射原理的雙光路全反射系統，包括光路、狹縫限束光欄及密封件殼。
2. 光源系統：高壓電源系統，雙X射線管激發系統，水冷及控制系統
3. 數據獲取系統：硅漂移探測器（SDD）、譜儀放大器、多道分析器
4. 機械調節系統：控制板卡，固態繼電器組，步進電機及相關對X射線管和樣品托運動機械系統和傳感器
5. 計算機、打印機
6. 軟件系統：獲取軟件、分析應用軟件
7. 機柜
8. X射線屏蔽系統
