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北京正立金相顯微鏡

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更新時間:2019-10-08 13:42:46瀏覽次數:1832

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產品簡介

北京正立金相顯微鏡用戶可以觀測到比光學顯微鏡分辨極限更小的、8 nm 級的微小劃痕和缺陷。暗視場適合檢測樣本上的微小劃痕及瑕疵和檢查表面光滑的樣本,包括晶圓。

詳細介紹

北京正立金相顯微鏡技術規格:

BX61

BX51

BX51M

BX41M-LED

光學系統

UIS2光學系統(無限遠校正)

機身

照明裝置

反射/透射

反射

反射(對應ESD功能)

外置12 V 100 W光源 
光量預調開關 
LED電壓指示 
反射/透射光轉換開關

內裝12 V 100 W光源 
光量預調開關 
LED電壓指示 
反射/透射光轉換開關

內裝12 V 100 W光源 
光量預調開關 
LED電壓指示

內裝3 W白色LED光源 
光量預調開關

對焦單元

電動調焦 
行程25 mm 
zui小刻度單位為0.01 μm

行程25 mm 
微調旋鈕1圈的微調行程為100 μm 
zui小刻度單位為1 μm 
可設聚焦粗調上限停止位置,粗調旋鈕張力可調

zui大標本高度

25 mm(不包含臂長調節器)

65 mm(不包含臂長調節器)

觀察筒

廣角視場 
(視場數為22)

倒置∶雙目鏡筒、三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒 
正象∶三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒

超寬視場 
(視場數為26.5)

倒置∶三目鏡筒 
正象∶三目鏡筒、傾斜式三目鏡筒

反射光
照明裝置

明視場等

BX-RLAA 
電動明/暗視場轉換 
電動孔徑光闌

BX-RLA2 
100 W鹵素燈(可裝高亮度光源、光纖照明裝置) 
明視場/暗視場/微分干涉/簡易偏振光 
視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構)、明/暗視場法連動的ND濾鏡

BX-AKMA-LED/BX-KMA-LED 
3 W白色LED照明 
明視場/微分干涉/簡易偏振光 
對應ESD功能 
僅BX-AKMA-LED具有的功能: 
斜射照明裝置 
AS(帶中心輸出機構) 
斜射照明的位置設置

反射光 
熒光

BX-RFAA 
電動六孔轉盤 
內置電動光閘 
備有視場光闌和孔徑光闌

BX-URA2 
100 W汞燈、75 W氙氣燈 
六孔分光鏡組件(標準∶WB、WG、WU+BF等) 
備有視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構)及光閘機構

透射光照明裝置

100 W鹵素燈 
阿貝聚光鏡/長工作距離聚光鏡 
內置透射光濾鏡(LBD、ND25、ND6)

-

物鏡轉換器

明視場用

電動六孔

六孔、中心輸出六孔、七孔(電動物鏡轉換器選購件)

五孔、六孔(對應ESD功能)、七孔

明/暗視場用

電動五孔、電動六孔、中心輸出五孔

五孔、中心輸出五孔、六孔(電動物鏡轉換器選購件)

-

載物臺

帶左手(右手)用同軸驅動旋鈕的載物臺:76 (X) × 52 (Y) mm,張力可調 
帶左手(右手)用同軸驅動旋鈕的大型載物臺:100 (X) × 105 (Y) mm,附設Y軸鎖定機構

ESD性能

-

表面電阻108Ω以下,放電時間少于0.2秒*

外形尺寸

約318(寬) × 602(長)× 541(高) mm

約318(寬) × 602(長) × 480(高)mm

約318(寬) × 602(長) × 480(高)mm

約283(寬) × 455(長) × 480(高)mm

重量

約25.5 kg 
(機身約重11.4 kg)

約20.8 kg 
(機身約重10.3 kg)

約19.5 kg 
(機身約重9.8 kg)

約14 kg 
(機身約重6.7 kg)

 

BXFM

BXFM-S

光學系統

UIS2光學系統(無限遠校正)

機身

對焦單元

行程30 mm、微調旋鈕1圈的微調行程為200 μm、zui小刻度單位2 μm、粗調旋鈕張力可調

觀察筒

廣角視場 
(視場數為22)

倒置∶雙目鏡筒、三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒 
正象∶三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒

超寬視場 
(視場數為26.5)

倒置∶三目鏡筒 
正象∶三目鏡筒、傾斜式三目鏡筒

反射光 
照明裝置

明視場等

BX-RLA2 
100 W鹵素燈(可裝高亮度光源、光纖照明裝置) 
明視場/暗視場/微分干涉/簡易偏振光 
備有視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構)

U-KMAS 
100 W鹵素燈光纖照明裝置 
明視場/微分干涉/簡易偏振光

反射光 
熒光

BX-URA2 
100 W汞燈、75 W氙氣燈 
六孔分光鏡組件(標準:WB、WG、WU BF等) 
備有視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構)及光閘機構

-

物鏡轉換器

明視場用

六孔、中心輸出六孔、七孔(電動物鏡轉換器選購件)

明/暗視場用

五孔、中心輸出五孔、六孔轉盤(電動物鏡轉換器選購件)

外形尺寸

約248 (寬) × 587 (長) × 249 (高) mm

約394 (寬) × 334 (長) × 276 (高) mm

重量

約9 kg(標準組合)

約6.2 kg (標準組合)

北京正立金相顯微鏡拍攝您所需的圖像

暗視場觀察法

Darkfield
表面安裝板

暗視場可以讓用戶觀察來自樣本散射和衍射的光線。光源的光線會先穿過照明裝置中的環形光學照明器件,然后在樣本上聚焦。樣本上的光線只是由Z 軸上的瑕疵反射形成的。因此,用戶可以觀測到比光學顯微鏡分辨極限更小的、8 nm 級的微小劃痕和缺陷。暗視場適合檢測樣本上的微小劃痕及瑕疵和檢查表面光滑的樣本,包括晶圓。

偏振光觀察法

Polarized Light
石棉

該顯微觀察技術所使用的偏振光是由一組濾鏡(檢偏振器和起偏振器)產生的。樣本特征會直接影響系統反射光的強度。該觀察法適用于觀察金相組織(例,球墨鑄鐵中石墨的生長圖案)、礦物、LCD 和半導體材料。

微分干涉(DIC)觀察法

Differential Interference Contrast (DIC)
磁頭

DIC 是一種顯微觀察技術,可以將明視場觀察法中無法檢測到的高度差異,用增強的對比度以浮雕或三維圖像的形式表現出來。該項基于偏振光的技術,擁有三個專門設計的棱鏡可供選擇以滿足用戶的需求。該觀察法適用于檢測高度差異極其微小的樣本,包括金相組織、礦物、磁頭研磨面和硬盤表面及晶圓研磨面。

熒光觀察法

Fluorescence
半導體晶圓上的顆粒 

該項技術適用于觀察那些在受到專門設計的濾鏡(可以按照檢測需要制作)照明時會發出熒光(發出不同波長的光線)的樣本。該方法通過熒光染色,應用于觀測半導體晶圓表面的污物、抗蝕劑的殘渣和裂痕的檢測。可以添加選購的復消色差光源聚光透鏡系統,從而為可見光到近紅外線范圍內的色差進行補償。

IR(紅外線)觀察法

Infra-Red (IR)
硅晶片層下的半導體電路

對使用了硅片、玻璃等易透射紅外線的電子設備的內部進行無損檢測時,IR 觀察十分有效。IR 物鏡也可用于近紅外線技術,如:拉曼光譜儀和YGA 激光修復應用。

處理濾鏡

Processing Filter
枝晶

OLYMPUS Stream 擁有各種濾鏡,可用于邊緣檢測、平滑處理和其它操作。使用處理濾鏡在拍攝的圖像上進行增強和修改處理后,圖像的特征變為可視化。為達到*效果,可使用預覽圖檢查或調整濾鏡的效果。

透射光觀察法

Transmitted Light Observation
LCD彩色濾鏡

對于透明樣本,如,LCD、塑料和玻璃材料,可通過使用各種透射光聚光鏡實現真正的透射光觀察。使用透射光可以在明視場、暗視場、DIC 和偏振光中對樣本進行成像和檢查--所有這些都在一個便捷的系統里。

自動制作3D 圖像(EFI)

Automated 3D Image Creation (EFI)
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