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• 氦離子檢測器（PDHID）

PDHID是利用氦中穩定的，低功率脈沖放電作電離源，使被測組分電離產生信號。PDHID是非放射性檢測器，對所有物質均有高靈敏度的正響應。

1. 脈沖放電間隔和功率    PDHID中放電電距離為1.6mm，改變充電時間可改變經過初級線圈的放電功率。充電時間越長、功率越大。一般脈沖間隔為200-300μs,充電時間在40-45μs，基流和響應值達*。因放電時間僅為1μs，而脈沖周期達幾百微秒，絕大部分時間放電電是空載。所以放電區不會過熱。
2. 偏電壓    在放電區相鄰的電上加一恒定的負偏電壓。響應值隨偏電壓的增加而急劇增大，很快即達飽和。在飽和區響應值基本不隨偏電壓而改變。PDHID在飽和區內工作，噪聲較低。基流與偏電壓的關系同響應值與偏電壓。
3. 通過放電區的氦流速    氦通過放電區有兩個目的：a 保持放電區的潔凈，以便氦被激發；b 它作為尾吹氣加入，以減少被測組分在檢測器的滯留時間。只是它和傳統的尾吹氣加入方向相反。池體積為113ul，對峰寬為5s的色譜峰，要求氦流速為6.8-13.6ml/min，如果峰寬窄至1s，流速應提高到34-68ml/min，以保持被測組分在檢測器的滯留時間短至該峰寬的10%-20%。
4. 電離方式和性能特征    PDHID的電離方式尚不十分明朗，綜合文獻敘述，電離過程有三部分組成：a 氦中放電發射出13.5-17.7eV的連續輻射光進行光電離；b 被高壓脈沖加速的電子直接電離組分AB，產生信號，或直接電離載氣和雜質產生基流；c 亞穩態氦與組分反應電離產生信號，或與雜質反應電離產生基流。.

e + AB→AB⁺ + 2e

e + He→He^**→ He^* + hν

He^* + AB→AB⁺ + e + He

• HP-2氦氣純化器：

純化器Valco氦氣（HP）純化器的純化基質是一種無揮發性的吸附性合金，吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣純化層的形成，又可以進行雜質氣體的吸附。HP的吸附劑材料具有良好的熱穩定性，包括兩個溫度控制范圍。

純化氣體：He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn

zui大操作壓力：1000Psi

去除氣體：H₂、O₂、N₂、CO、CO₂、CH₄、H₂O、NO、NH₃、CF₄等

殘留濃度：≤10ppb

• VALCO吹掃型十通閥：

山分高純氣分析系統配備了吹掃型十通閥，閥平面始終處于載氣的氛圍中，切換時無空氣滲漏而混入樣品之中

• 無死體積取樣閥

山分高純氣分析系統配備了無死體積的取樣閥，將取樣過程對分析的影響降至zui低的水平，取樣時采用帶吹掃保護的進樣方式，有效的避免了空氣混入的問題