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寧波旗辰儀器有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第15年

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XDV-µ涂鍍層厚度測(cè)量?jī)x

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地寧波市

更新時(shí)間:2020-12-10 15:09:33瀏覽次數(shù):7934次

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應(yīng)用領(lǐng)域 化工,石油,電子,冶金,制藥
XDV-µ涂鍍層厚度測(cè)量?jī)x是專為在極微小結(jié)構(gòu)上進(jìn)行高精度鍍層厚度測(cè)量和材料分析而設(shè)計(jì)的。該系列儀器均配備用于聚焦X射線束的多毛細(xì)管透鏡,光斑直徑(FWHM)可達(dá)10至60µm。短時(shí)間內(nèi)就可形成高強(qiáng)度聚焦射線。除了通用型XDV-µ型儀器,還有專門為電子和半導(dǎo)體行業(yè)而設(shè)計(jì)的儀器。如XDV-µ LD是專為測(cè)量線路板而優(yōu)化的,而XDV-µ

XDV-µ涂鍍層厚度測(cè)量?jī)x

特點(diǎn):

  • Advanced polycapillary X-ray optics that focus the X-rays onto extremely small measurement surfaces
  • *多毛細(xì)管透鏡,可將X射線聚集到極微小的測(cè)量面上
  • 現(xiàn)代化的硅漂移探測(cè)器(SDD),確保*的檢測(cè)靈敏度
  • 可用于自動(dòng)化測(cè)量的超大可編程樣品平臺(tái)
  • 為特殊應(yīng)用而專門設(shè)計(jì)的儀器,包括:
    • XDV-μ LD,擁有較長(zhǎng)的測(cè)量距離(至少12mm
    • XDV-μLEAD FRAME,特別為測(cè)量引線框架鍍層如Au/Pd/Ni/CuFe等應(yīng)用而優(yōu)化
    • XDV-μ wafer,配備全自動(dòng)晶圓承片臺(tái)系統(tǒng)

XDV-µ涂鍍層厚度測(cè)量?jī)x應(yīng)用:

鍍層厚度測(cè)量

  • 測(cè)量未布元器件和已布元器件的印制線路板
  • 在納米范圍內(nèi)測(cè)量復(fù)雜鍍層系統(tǒng),如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度
  • 對(duì)大12英寸直徑的晶圓進(jìn)行全自動(dòng)的質(zhì)量監(jiān)控
  • 在納米范圍內(nèi)測(cè)量金屬化層(凸塊下金屬化層,UBM
  • 遵循標(biāo)準(zhǔn) DIN EN ISO 3497 ASTM B568

材料分析

  • 分析諸如Na等極輕元素
  • 分析銅柱上的無(wú)鉛化焊帽
  • 分析半導(dǎo)體行業(yè)中C4或更小的焊料凸塊以及微小的接觸面
  • 鍍層厚度測(cè)量

  • 測(cè)量未布元器件和已布元器件的印制線路板
  • 在納米范圍內(nèi)測(cè)量復(fù)雜鍍層系統(tǒng),如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度
  • 對(duì)大12英寸直徑的晶圓進(jìn)行全自動(dòng)的質(zhì)量監(jiān)控
  • 在納米范圍內(nèi)測(cè)量金屬化層(凸塊下金屬化層,UBM
  • 遵循標(biāo)準(zhǔn) DIN EN ISO 3497  ASTM B568
  • 材料分析

  • 分析諸如Na等極輕元素
  • 分析銅柱上的無(wú)鉛化焊帽
  • 分析半導(dǎo)體行業(yè)中C4或更小的焊料凸塊以及微小的接觸面
  • 鍍層厚度測(cè)量

  • 測(cè)量未布元器件和已布元器件的印制線路板
  • 在納米范圍內(nèi)測(cè)量復(fù)雜鍍層系統(tǒng),如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度
  • 對(duì)大12英寸直徑的晶圓進(jìn)行全自動(dòng)的質(zhì)量監(jiān)控
  • 在納米范圍內(nèi)測(cè)量金屬化層(凸塊下金屬化層,UBM
  • 遵循標(biāo)準(zhǔn) DIN EN ISO 3497  ASTM B568
  • 材料分析

  • 分析諸如Na等極輕元素
  • 分析銅柱上的無(wú)鉛化焊帽
  • 分析半導(dǎo)體行業(yè)中C4或更小的焊料凸塊以及微小的接觸面
  •  

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