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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 參考價 | 面議 |
更新時間：2024-05-17 12:32:21瀏覽次數(shù)：1342
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子 |
|---|
u非常緊湊實用的系統(tǒng)
u在 365nm 處*單色曝光
u可處理 4 英寸晶圓
u硬（物理）接觸或軟（接近）接觸模式
u兼容所有光刻膠
u分辨率：2µm
u對準分辨率：< 3µm
u由 PAD 引導
UV-KUB 3 是一種基于掩膜對準系統(tǒng)的 UV-LED，具有 365nm 的可用光源。 這是一個非常緊湊的桌面系統(tǒng)，兼容 4 英寸晶圓和 100x100 mm2 工作表面。 由于特定的光學裝置可提供最大發(fā)散角小于 2° 的準直光束，因此可實現(xiàn)的最小特征尺寸為 2 µm。 UV-KUB 3 系統(tǒng)兼容硬（物理）接觸或軟（接近）接觸模式，并提供低至 3 µm 的對準分辨率。 該掩膜對準器系統(tǒng)支持所有標準光刻膠，例如 AZ、Shipley、SU-8 和 K-CL。
掩膜對準器UV-KUB 3是第一款配備UV-LED光源的掩膜對準系統(tǒng)，可在國際市場上提供一個好的的準直和均勻曝光。這款新一代掩膜對準器*由觸摸屏操作進行曝光，通過操縱板控制進行對準操作。由于其防塵罩，該設備*安全，是市場上wei 一使精密光刻而無需潔凈室類型環(huán)境的解決方案。
技術突破：
1、高質(zhì)量準直器
· 發(fā)散角小于2°，保證了在厚層上實現(xiàn)分辨率低至 1µm和邊緣垂直度極 jia的圖案。
· 這種高質(zhì)量的準直允許在不需要真空接觸模式的情況下達到微米級的分辨率。
2、LED技術
·完 mei的單色曝光光源
·冷紫外線源，防止不良熱效應
·可以在連續(xù)或脈沖模式下運行
·壽命長：uv-led光源不屬于消耗品
3、分辨率和對準精度
·這種新一代掩模對準器能夠在整個4"或6"工作表面上實現(xiàn)低于1µm的微結(jié)構(gòu)，對準精度小于1 µm
特征：
? 晶圓表面區(qū)域的完 mei單色曝光，帶寬低于 10 nm
? 由 PAD 引導的視頻輔助定位系統(tǒng)
? 冷紫外線照射和基板環(huán)境的實時原位溫度控制，在整個表面上的均勻照射，因此消除了任何不良的熱效應
? 強大的功率密度
? LED 壽命長：受控實時使用時間超過 10 000 小時
? 用戶友好型觸摸屏界面，可設置曝光循環(huán)編程（連續(xù)或循環(huán)曝光）
? 無需預熱時間
? 紫外線源強度調(diào)節(jié)的計算機控制，很直觀
? 紫外線照射室*密封：保證用戶安全
? 自動晶圓裝載和卸載系統(tǒng)
? 低消耗
工藝應用：
UV-KUB 3 系統(tǒng)非常適合實驗室和研發(fā)團隊的廣泛應用，這些應用涉及光學、生物技術、微電子、需要多層掩膜、晶圓鍵合、簡單層或粘合劑固化、連接、組裝和生物或細胞培養(yǎng)的光刻工藝。
技術參數(shù)：
分辨率 | 1µm |
對準精度 | 1µm |
發(fā)散角 | < 2° |
可編程周期數(shù) | 100 |
曝光周期（連續(xù)或循環(huán)） | 從 1 秒到1小時 |
接觸模式 | 硬（物理）接觸或軟（接近）接觸模式 |
可視化系統(tǒng)分辨率 | 1,5µm |
θ襯底位移分辨率 | 5.10-4° |
XYZ襯底位移分辨率 | 0,4µm |
UV-LED光源：
波長 | 365 nm ± 5 nm |
均勻曝光 | +/-5% |
LED的壽命 | >10000小時 |
工作處理表面：
處理表面 | 4" 或 6" 晶圓 |
可接受的掩膜版尺寸 | 4" 和 6" 版本分別高達 ? 5" 或 ? 7" |
可接受的基材尺寸 | ? 2" - ? 4" - ? 6" 和 50 x 50mm - 100 x 100mm |
掩膜/基板測量距離分辨率 | 0,5µm |
曝光期間的基板預熱 | < 1°C |
兼容光刻膠 | SU8、Shipley、AZ Resist、K-CL 抗蝕劑 |
其他參數(shù)：
·尺寸：475(L)x 480(W)x 515(H)毫米
·重量：55千克/121磅
·彩色觸摸屏：15.6英寸
·功率密度：35 mW/cm2+/-10%
·電源：100 v/240 V-50 Hz/60 Hz
·功率：180 W
·可與鍍鉻的和柔性薄膜掩膜版兼容
