氬離子拋光儀利用氬離子拋光技術(shù)，通過離子束對樣品表面進行削平拋光處理，以便利用掃描電鏡等顯微觀察工具觀察樣品表面的微觀特征。
 

　　氬離子拋光儀的原理：
 

　　氬離子拋光技術(shù)是對樣品表面進行拋光，去除損傷層，從而得到高質(zhì)量樣品，用于在掃描電鏡，光鏡或者掃描探針顯微鏡上進行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。針對不同的樣品的硬度，設(shè)置不同的電壓、電流、離子槍的角度、離子束窗口，控制氬離子作用的深度、強度、角度、這樣較ng準的參數(shù)，有利于制備成研究者理想的材料樣品，這樣的樣品不僅表面光滑無損傷，而且還原材料內(nèi)部的真實結(jié)構(gòu)，正如頁巖內(nèi)部的細微孔隙在掃描電鏡下放大到10K時也能看得清清楚楚，以及材料內(nèi)部的不同物質(zhì)分層都能看的分界線明顯。
 

　　氬離子拋光儀的切割和拋光兩項功能：
 

　　①配溫控液氮冷卻臺，去除熱效應對樣品的損傷，有助于避免拋光過程中產(chǎn)生的熱量而導致的樣品融化或者結(jié)構(gòu)變化;
 

　　②配碳/鉻鍍膜，對于同一個樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜，防止樣品氧化，可以用于SEM/FIB導電鍍膜樣品制作。
 

　　氬離子拋光在材料制樣的特出優(yōu)點：
 

　　①對由硬材料和軟材料組成的復合材料樣品,能夠很精細地制作軟硬接合部的截面,而使用傳統(tǒng)方法制樣是很困難的。
 

　　②比FIB方法的拋光面積更大(~1mm以上)。
 

　　氬離子拋光儀可以運用于各種材料樣品(除了液態(tài))的制備，適應大多數(shù)材料類型，對大面積、表面或輻照及能量敏感樣品尤佳：鋼鐵、地質(zhì)、油頁巖、鋰離子電池、光伏材料、薄膜、半導體、EBSD、生物材料等包括平面拋光與截面拋光。