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反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)RIE600W是一款進(jìn)口等離子體反應(yīng)離子蝕刻機(jī),用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。等離子體蝕刻系統(tǒng)可容納直徑達(dá)200mm的晶片樣品。我們的定制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)可根據(jù)幾何形狀和研究需要處理各種樣品尺寸。
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)可以手動(dòng)或PC控制，可以是桌面或獨(dú)立機(jī)柜系統(tǒng)。
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)RIE600W用于各向同性蝕刻材料，包括金屬氧化物、硅和微電子器件。配有自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)和腐蝕性氣體的全功率600瓦射頻電源可對(duì)各種材料產(chǎn)生10°/s的蝕刻速率。
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)RIE600W自動(dòng)射頻功率控制確保了手動(dòng)射頻功率控制無(wú)法實(shí)現(xiàn)的過(guò)程的一致再現(xiàn)。RIE600渦輪分子阻力泵系統(tǒng)可達(dá)到10-5Torr的基本壓力。這種低真空在開始每個(gè)過(guò)程之前消除雜質(zhì)。這是新蝕刻工藝所必需的。
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)特點(diǎn)
緊湊的桌面設(shè)計(jì)，適用于樣品的各向同性蝕刻（20英寸x 24英寸的占地面積）
帶頂部開口的鋁或不銹鋼腔室（蛤殼式）
腔室上的小視圖端口
水冷6''晶片/樣品臺(tái)（最多可容納一個(gè)6''晶片）
蝕刻/清潔的均勻性（在6''晶片上小于5%）
帶匹配網(wǎng)絡(luò)的射頻電源
匹配雙級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片泵的渦輪分子真空泵系統(tǒng)
用于工藝氣體的帶數(shù)字讀數(shù)的質(zhì)量流量控制器
定制一體式氣體淋浴器
帶數(shù)字顯示和讀數(shù)的真空計(jì)（測(cè)量至0.1mTorr）
半自動(dòng)控制系統(tǒng)