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產地類別	進口	價格區間	30萬-50萬
應用領域	綜合	組成要素	氣體激光器產品及設備

真空紫外VUV相干光源PEV系列是114nm真空紫外激光器光源,非常用于光電子能譜PES應用的激發光源。采用深紫外激光技術實現114nm和11eV光子能量的真空紫外光源。

詳細介紹

真空紫外VUV相干光源PEV系列是114nm真空紫外激光器光源,非常用于光電子能譜PES應用的激發光源。采用深紫外激光技術實現114nm和11eV光子能量的真空紫外光源。

真空紫外VUV相干光源通過將VUV光源與角度分辨光電子能譜（ARPES）和飛行時間TOF分析儀器集成,可以構建新的材料開發工具，用于開發電池材料和納米材料。這也有助于實現全新的激光光電子譜儀。
真空紫外VUV相干光源的11eV激光輸出是相干的，因此可以用單個透鏡聚焦在目標樣品上（可提供微聚焦選項）。
通過將所有光學元件集成到一個單元中，無需現場調整設備。因此，從設備交付到光電子能譜儀啟動的前置時間可以縮短。
真空紫外VUV相干光源規格參數

光子能量	11eV *¹
光子能量分辨率	< 0.6meV
重復頻率	50MHz	5MHz *²
輸出激光功率 *³	> 5μW	>3μW
脈寬	< 30ps
特色	抑制峰值功率，從而減小空間電荷效應	可根據客戶的TOF應用選擇出廠預設重復頻率*2.