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順流等離子體清洗器，隨著納米科學(xué)的發(fā)展，電子探針?lè)治鲎兊迷絹?lái)越具有挑戰(zhàn)性：電子束能量降低，反應(yīng)氣體使用的增加，保持高分辨率越來(lái)越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低碳?xì)浠镂廴舅健ｍ樍鞯入x子工藝可以快速、方便地消除碳?xì)浠衔锏奈廴静⑦M(jìn)行樣品清洗。與傳統(tǒng)的“等離子清洗器"中的動(dòng)能清洗不同，順流等離子清洗過(guò)程是一個(gè)溫和的化學(xué)過(guò)程（無(wú)動(dòng)力沖擊）。這一過(guò)程*地改變了清除真空腔中碳和碳?xì)浠镂廴镜姆椒ā?/p>

該工藝可高效地清潔大容積腔室和嚴(yán)重污染的表面。GV10x等離子清洗器只需傳統(tǒng)清理器約1/10的時(shí)間即可清潔鏡腔，因?yàn)樗鼤?huì)使空氣產(chǎn)生更高濃度的氫離子和氧離子，從而達(dá)到去污目的，其效果更為溫和。

順流等離子體清洗器，與使用冷凝捕集器、氮?dú)獯祲m和其他等離子清潔器去污染的傳統(tǒng)方法相比，GV10x等離子清洗器清除碳污染的能力得到了重大的改善。GV10x具有更大的功率和壓力范圍（5到100瓦，2到<0.005Torr），代表了SEM和其他分析儀器（包括Mas-Spec、XPS等）中碳和碳?xì)浠衔锟刂七_(dá)到了*式的轉(zhuǎn)變。

原子氧和氫將表面碳轉(zhuǎn)化為氣態(tài)分子，不再像傳統(tǒng)的方式那樣只將其固化或吸附，而是將氣態(tài)分子從鏡腔中抽出，從而達(dá)到去污效果。聚合沉積物等人工樣品可在>5分鐘的循環(huán)中被掃除掉。由于不頻繁的清洗周期，QWK™的配置結(jié)構(gòu)允許GV10x等離子清洗器可以在多個(gè)EM工具中保持較低的HC水平。

IBSS集團(tuán)提供了可驅(qū)動(dòng)和操作GV10x等離子體源的控制器。 實(shí)驗(yàn)室用戶可依需求選擇BT控制器或2U控制器。

從Windows軟件或觸摸屏，操作員可以：在運(yùn)行期間進(jìn)行設(shè)置和監(jiān)控，可將功率從10瓦更改為99瓦。 從等離子源調(diào)整進(jìn)氣量可選擇2 Torr <<5 mTorr的壓力范圍。GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴荆鵁o(wú)需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。 GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴荆鵁o(wú)需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。

Key Features

1、在小于5 mTorr至2 Torr的條件下，無(wú)需中斷TMP即可調(diào)節(jié)等離子體壓力；

2、50瓦時(shí)可重復(fù)去污率為1.5納米/分鐘；

3、等離子清洗周期少于5分鐘；

4、低工作壓力產(chǎn)生均勻清洗效果；

5、減少污染的效率比其他等離子清洗器高10倍以上；

6、順流等離子體-無(wú)加熱和濺射損傷；

7、光隔離控制器保護(hù)SEM軟件；

8、短期內(nèi)即可獲得投資回報(bào)；

離子源的特點(diǎn)：

1、電感耦合等離子體源；

2、提供KF40、ConFlat和Qwk-Switch™附件；

3、Qwk-Switch™快速接頭– 實(shí)現(xiàn)儀器之間的無(wú)縫轉(zhuǎn)換；

4、控制器的特點(diǎn)；

5、通過(guò)觸摸屏或Windows系統(tǒng)進(jìn)行操作；

6、明亮靈敏的觸摸屏；

7、可調(diào)射頻功率：5-100瓦；

8、可調(diào)清洗時(shí)間，配置循環(huán)進(jìn)度條；

9、密碼保護(hù)設(shè)置；

10、垂直于地面的更小的占地面積（2U控制器）；