當(dāng)前位置:日立分析儀器(上海)有限公司>>技術(shù)文章>>LIBS、XRF或OES — 金屬分析設(shè)備的選型手冊
LIBS、XRF或OES — 金屬分析設(shè)備的選型手冊
日立分析儀器的Mikko Järvikivi提供了選型指南,介紹了金屬分析的主要技術(shù)、現(xiàn)有的儀器以及有效的應(yīng)用。
近年來,材料分析領(lǐng)域發(fā)生了迅猛變化。諸如光學(xué)發(fā)射光譜(OES)、X射線熒光(XRF)和激光誘導(dǎo)擊穿光譜(LIBS)等技術(shù)的持續(xù)發(fā)展與應(yīng)用使其更適用于各行各業(yè)的公司。
無論是質(zhì)量保證/質(zhì)量控制流程(QA/QC)、材料分選、材料可靠性鑒定(PMI)還是科學(xué)分析,您均可使用現(xiàn)有產(chǎn)品在現(xiàn)場和移動中進(jìn)行材料測試。
許多公司會問:哪種技術(shù)適合我們?