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一、產品介紹CIF推出等離子去膠機,采用電感耦合各向同性(各個方
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v用途:材料清洗、材料活化、材料刻蝕、材料涂覆v80kHz:功率1000或3000W13.56MHz:功率0-300W
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LSC4000半導體晶圓清洗設備:Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提
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英思特長期致力于半導體等行業干濕制程設備、自動供/排液系統、甩干機等設備的設計、生產、銷售及設備的優化。期待與您的合作!
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IoN系列等離子清洗去系統具有多種射頻電源選項,可滿足客戶的特定
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用于封裝領域中的光阻去除工藝,掩膜版清洗,OLED領域中的光阻去除
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