LW400LMDT大平臺工業顯微鏡配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場無限遠長工作距離明暗場物鏡、大視野目鏡、圖像清晰，襯度好。是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、治金工業開發的，作為高級工業顯微鏡使用。可進行明暗場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析.

性能特點：

1．  采用了UIS高分辨率、長工作距離無限光路校正系統的物鏡成像技術。

2．  拓展了物鏡的復用技術，無限遠物鏡與所有觀察法相兼容包括明暗視野法、偏光法，并在每一觀察法中均提供高清晰的圖像質量。

3．  采用非球面Kohler照明，增加觀察亮度。

4．  WF10X（Φ25）超大視野目鏡，長工作距離明暗場金相物鏡。

5．  可插DIC微分干涉裝置的轉換器。

主要技術參數：

1． 目鏡筒：三目, 30?傾斜，360? 旋轉（內置檢偏振片,可進行切換）

2．目鏡：大視野10X/22mm

3．無限遠長工作距離平場消色差明/暗場物鏡（無蓋玻片）

   5X/0.1B.D，工作距離:29.4mm，

   10×/0.25B.D，工作距離：16mm，

   20X/0.40B.D,工作距離：10.6mm，

   40×/0.60B.D，工作距離：5.4mm

4．總放大倍數：50-400X

5．轉換器：五孔（內向式滾珠內定位）

6．載物臺： 雙層機械移動式（尺寸: 350mm×310mm,移動范圍: 250mm×250mm）