基片尺寸：4，6，8，12英寸；

時間設定范圍：1~999秒；

轉速范圍：100rpm~8000rpm(1%)；

應用：勻膠，甩膠，涂膠，涂膜等；

控制方式：手動控制，數字程序化控制和觸摸屏控制；

真空性能：專業Oilless Vac & pressure Pump；

*；

又名：甩膠機,甩膜機,涂膠機,旋轉涂膜機,勻膜機等；

的半導體設備供應商，多年來致力于掩膜對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上zui早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多*企業、研發中心、研究所和高校所采用；依優秀的技術、*的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

相關產品：

掩模對準曝光系統 / 光刻機（紫外/深紫外）：手動或自動化控制，基片尺寸4、6、8、12、25英寸，光束均勻性3%，對準精度zui高0.5微米；結合專業的楔形誤差補償技術，使得加工工藝更為完善；