日本ULVAC愛發科半導體兼容高能離子注入機
日本ULVAC愛發科半導體兼容高能離子注入機
兼容高能離子注入機SOPHI-400
這是一種高能離子注入機,可處理高達 1200keV 的電壓。
中電流離子注入機IMX-3500是一款最高能量為200kV、晶圓尺寸最大為8英寸的離子注入機,非常適合大學的研發。
特征
單片式
兼容薄晶圓
平行光束
最大晶圓尺寸為8英寸,配備可處理不規則形狀基板的壓板。
除了氣體源之外,固體蒸發源也可用于易于安全處理 B、P 和 As 離子的離子源。
高壓端子部分與量產設備配置相同,確保高可靠性。
目的
功率器件薄基板工藝、IGBT工藝
規格
板材尺寸:Max200mm
最大電壓:Max1200 keV
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