日本ULVAC愛發科半導體灰化裝置NA系列
日本ULVAC愛發科半導體灰化裝置NA系列
灰化裝置LuminousNA系列
Luminous NA 系列是一款不受晶圓尺寸限制的灰化系統，可以處理從關鍵的下一代晶圓工藝到晶圓級安裝工藝的各種工藝。
特征
可以執行關鍵的下一代晶圓工藝所需的1×10 16原子/cm 2或更高的無損傷離子注入剝離工藝和聚合物去除工藝。
腔室配置適合氟基氣體添加工藝，使其無顆粒。因此，可以構建從普通PR到離子注入剝離、有機膜剝離（PI、DFR等）剝離、氧化膜蝕刻等廣泛的工藝。
采用簡單的設備配置，同時實現了“出色的可維護性和可靠性”和“低成本”。
可以實現靈活的腔室配置（μwave、RIE、μwave + RIE），并且可以選擇多種傳輸路線。
晶圓尺寸只需通過配方設置即可更改，因此更改晶圓尺寸非常容易。
目的
離子注入剝離工藝（1 x 10 16原子/cm 2或更多）和前端工藝中的聚合物去除
需要CF4添加工藝的晶圓工藝（電子元件/LED）
芯片尺寸封裝和BUMP工藝
CCD彩色濾光片制造工藝
規格
| 模型 | 兼容晶圓尺寸 |
| Luminous NA-8000 | 100毫米、125毫米、150毫米和200毫米 |
| Luminous NA-1300 | 200毫米和300毫米 |
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