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德國(guó)ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10 自動(dòng)化高清晰掃描電鏡 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:德國(guó)zeiss掃描電鏡
參考價(jià) | ¥ 800000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱 深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/11/4 18:14:33
- 訪問(wèn)次數(shù) 51
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本公司主要從事半導(dǎo)體進(jìn)口設(shè)備及輔助材料、醫(yī)療檢測(cè)設(shè)備等多領(lǐng)域的銷售,是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的企業(yè)。我們的主營(yíng)業(yè)務(wù)涉及了研發(fā)銷售及加工材料及周邊產(chǎn)品;電子光電產(chǎn)品設(shè)備研發(fā)組裝及銷售,半導(dǎo)體儀器設(shè)備銷售;國(guó)內(nèi)貿(mào)易、貨物及技術(shù)進(jìn)出口;醫(yī)療器械研發(fā)及銷售;醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10,具備自動(dòng)化工作流程的高清晰掃描電鏡
技術(shù)規(guī)格
設(shè)備主要部件及技術(shù)要求:
該項(xiàng)目的設(shè)備必須是全新設(shè)備且整體進(jìn)口(包括所有零部件,元器件和附件等),滿足各自的技術(shù)指標(biāo)和性能,其性能應(yīng)達(dá)到水平,可靠性好,性能穩(wěn)定,控制精度高,使用、操作和維修方便,售后服務(wù)優(yōu)良,必須在河南地區(qū)常駐有售后工程師以方便后期維護(hù)。
1、基本要求
1.1 電子光學(xué)系統(tǒng)
1.1.1 發(fā)射源:鎢燈絲;
1.1.2 分辨率:高真空二次電子像 ≤3.0nm @30kV≤8.0nm @3kV低真空背散射電子像 ≤4.0nm(30kV);
1.1.3 加速電壓范圍:200V-30kV,10V 步進(jìn)連續(xù)可調(diào);
1.1.4 放大倍數(shù)范圍不小于:7X-1,000,000X,連續(xù)可調(diào);
*1.1.5 探針電流范圍:0.5 pA~5μA,連續(xù)可調(diào);
*1.1.6 電子束控制模式不少于以下幾種控制模式:分辨率模式、分析模式、大視野模式、大景深模式和魚眼模式;
*1.1.7 分析工作距離不大于 8.5mm 且分析工作距離下的視野范圍不小于 6mm,普通模式下視野范圍不小于 20mm;
1.2 真空系統(tǒng)
1.2.1 抽真空系統(tǒng):渦輪分子泵 + 機(jī)械泵,不需要冷卻水
1.2.2 樣品室真空度:優(yōu)于優(yōu)于 3 x 10-4 Pa
1.2.3 抽真空時(shí)間:≤3 分鐘
1.3 樣品室及樣品臺(tái)
1.3.1 樣品室內(nèi)部尺寸不小于 310mm(直徑)×220mm(高);3
*1.3.2 可放置的樣品尺寸和承重:樣品直徑不小于 230mm,高度不小于 100mm,樣品臺(tái)承重不小于5kg;
1.3.3 配備探測(cè)器:高真空二次電子探測(cè)器,背散射電子探測(cè)器,樣品室紅外 CCD 攝像裝置
*1.3.4 配置五軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái):樣品臺(tái)馬達(dá)移動(dòng)范圍:不小于 80mm(X 方向),100mm(Y 方向),35mm(Z 方向),-10°~ 90°(傾斜),360°(旋轉(zhuǎn))
1.3.5 樣品臺(tái)類型:全電動(dòng) 5 軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái),雙軸搖桿操作系統(tǒng);
1.3.6 樣品臺(tái)具有接觸報(bào)警與自停功能;
*1.3.7 馬達(dá)臺(tái)重復(fù)精度不低于 2um;
1.4 圖像處理系統(tǒng)
1.4.1 配套計(jì)算機(jī)系統(tǒng):不低于 CPU P4 3.0GHz,RAM 512Mb,硬盤 120Gb,軟盤驅(qū)動(dòng)器 1.44Mb,光盤刻錄機(jī),24″液晶顯示屏,鍵盤,鼠標(biāo),USB 接口
1.4.2 顯示圖像分辨率:不小于 1024×768 像素
*1.4.3 單幅圖像存儲(chǔ)圖像分辨率:不小于 32k×24k 像素
1.4.4 存儲(chǔ)圖像格式:TIFF、BMP 與 JPEG
1.5 控制系統(tǒng)
1.5.1 配置 Windows 操作系統(tǒng)
1.5.2 配置專業(yè)的電子顯微鏡控制軟件
1.5.3 自動(dòng)功能:自動(dòng)電子槍啟動(dòng),電子槍自動(dòng)對(duì)中,自動(dòng)偏壓調(diào)整,自動(dòng)和手動(dòng)聚焦,聚焦補(bǔ)償,動(dòng)態(tài)聚焦,旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償,自動(dòng)消像散,圖像降噪處理。
1.5.4 圖像采集:像素平均、幀平均、幀積分、行平均、行積分;
1.5.5 顯示器:24″高對(duì)比度彩色平板顯示器;
1.5.6 顯示方式:全屏顯示、分屏顯示、灰度直方圖、輪廓方式、偽彩色;
1.5.7 圖像注釋與數(shù)據(jù)區(qū):提供標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)區(qū)和定制數(shù)據(jù)區(qū),可在圖片上顯示各種電鏡參數(shù)和字符。
1.5.8 狀態(tài)菜單:顯示各種工作
1.5.9 測(cè)量功能:可對(duì)圖像中的形貌進(jìn)行點(diǎn)間距、角度、直徑等測(cè)量。
1.6 能譜儀系統(tǒng)
1.6.1 功能:用于材料的微區(qū)成分定性、定量分析。
1.6.2 配置電制冷能譜儀,能譜儀窗口面積不小于 30mm2,能量分辨率(600000CPS) Mn-Ka 優(yōu)于129eV;
1.6.3 元素分析范圍:Be4~CF98;
1.6.4 能譜儀處理單元與計(jì)算機(jī)采用分立式設(shè)計(jì),單探測(cè)器輸出計(jì)數(shù)率優(yōu)于 600,000CPS,可處理計(jì)數(shù)率1,500,000CPS;4
1.6.5 可將電鏡圖像傳輸?shù)侥茏V儀的顯示器上,并以該圖為中心做微區(qū)分析,實(shí)現(xiàn)點(diǎn)、區(qū)域定性定量分析,以及線掃描和面分布功能;
1.6.6 系統(tǒng)配置專業(yè)能譜儀數(shù)據(jù)處理工作站;
1.7 離子濺射儀
1.7.1 玻璃處理室:直徑不小于 100 毫米,高度不小于 130 毫米;
1.7.2 試樣臺(tái)尺寸:直徑不小于 40 毫米可同時(shí)放 6 個(gè)樣品杯;
1.7.3 靶尺寸:直徑不小于 58 毫米;
1.7.4 真空系統(tǒng):直聯(lián)旋片真空泵 1 升/秒;
1.7.5 真空檢測(cè):皮氏計(jì);
1.7.6 真空保護(hù):20Pa 配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空;
1.7.7 工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,配有氬氣專用進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié);
1.7.8 配置:內(nèi)置一塊金鈀。
2 、產(chǎn)品配置要求
為達(dá)到上述技術(shù)指標(biāo),投標(biāo)產(chǎn)品應(yīng)配置必要的硬、軟件。投標(biāo)產(chǎn)品不低于以下配置:
2.1 掃描電子顯微鏡 1 套;
2.2 RS232 能譜儀智能通訊接口 1 套;
2.3 電制冷能譜儀 1 套;
2.4 空氣壓縮機(jī) 1 套;
2.5 樣品室內(nèi)全自動(dòng)控制紅外 CCD 相機(jī) 1 套;
2.6 二次電子探測(cè)器 1 套,背散射電子探測(cè)器 1 套;
2.7 樣品束流檢測(cè)器或者束流檢測(cè)皮安表 1 套;
2.8 不間斷穩(wěn)壓電源 1 套;
2.9 碳導(dǎo)電雙面膠帶 2 卷和燈絲 1 盒(10 支);
更簡(jiǎn)單、更智能、整合性更高
智能化成像 – 性能高效
EVO 能夠提高制造和質(zhì)量控制領(lǐng)域的工作效率。試想一下,將典型的工作流程從 400 多步操作簡(jiǎn)化為 15 步,以三種不同的放大倍率在 9 個(gè)樣本上對(duì)感興趣的 4 個(gè)點(diǎn)進(jìn)行成像。智能化系統(tǒng)能夠自動(dòng)完成光路對(duì)中、調(diào)節(jié)放大倍率、聚焦和移動(dòng)載物臺(tái) – 一切都為最終的圖像采集,系統(tǒng)會(huì)根據(jù)所選的樣品設(shè)置成像條件。通過(guò)易于操作的click-stop 按鈕控制鏡筒中間的光闌孔,從而獲得可靠且重復(fù)性高的檢測(cè)結(jié)果。
的表面成像能力
您可以在低電壓下利用高分辨背散射電子探測(cè)器(HD BSD)實(shí)現(xiàn)具有清晰襯度的表面細(xì)節(jié)成像。針對(duì)電子束敏感樣品或表面形貌分析,電子束減速技術(shù)能夠提高分辨率及增強(qiáng)表面細(xì)節(jié)信息。成像過(guò)程中的漂移校正有助于進(jìn)一步提高邊緣分辨率。EVO 系列可提供包含高性能 HD 束源在內(nèi)的三類電子束源技術(shù),通過(guò)組合應(yīng)用開創(chuàng)圖像質(zhì)量全新標(biāo)準(zhǔn)。
環(huán)境電子顯微鏡技術(shù)
EVO LS 可在不同溫度、壓力和濕度條件下觀察生命科學(xué)樣品及材料樣品的納米級(jí)信息。使用EVO LS 能獲得細(xì)胞、植物和生物在自然水合狀態(tài)下的細(xì)節(jié)信息。分析材料性能,如耐蝕性、耐熱性及涂鍍性能。EVO LS 型環(huán)境掃描電鏡能在高達(dá) 3000 Pa 的壓力下獲取高品質(zhì)圖像,輕松完成含水樣品的成像,同時(shí)利用計(jì)算機(jī)控制環(huán)境條件,以避免出現(xiàn)脫水假象。
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