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PLD-T VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發器

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儀器儀表,電子設備,機械設備,工業自動化設備,五金產品,電線電纜,金屬材料,電子

產地類別 進口 價格區間 面議
應用領域 綜合

VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發器

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PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統,可通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上,只需很少的設置。
脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕,并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法,它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發器

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PLD-T
熱蒸發源

(舟/籃/盤管)

脈沖激光沉積系統可配備三個獨立的熱阻熱蒸發源。蒸發源支架的良好設計不會使污染物從源材料轉移到其他材料。源架的長度可在 5~10 cm 范圍內調節,滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機

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